制絨原理及相應(yīng)問題的對策(參考版)
2025-05-02 05:05本頁面
【正文】 因此，最好使用在線式連續(xù)清洗 ? 酸性溶劑的濃度對于腐蝕速度的控制具有決定意義，應(yīng)嚴格控制 ? 酸性溶劑的溫度對于腐蝕速度的控制具有重要意義 。 ? 但是反過來，多晶硅織絨的情況也受表面狀態(tài)影響很大，不容易控制 ? 酸性溶劑有除油效果，因此多晶硅表面的織絨對于前期硅片表面沾污不是很敏感 ? 酸性溶劑在表面如遇空氣，很容易干躁形成氧化層的著色現(xiàn)象，一旦著色很難再行清除。但是織絨較淺，會影響件反射效果。實驗是用 100%的濃鹽酸滴定，若滴定一段時間后出現(xiàn)少量絮狀物，說明硅酸鈉含量適中；若滴定開始就出現(xiàn)一團膠狀固體且隨滴定的進行變多，說明硅酸鈉過量。 表面油脂貨攤沾污的結(jié)果 ? 減緩去損傷層的量 ? 無法形成織構(gòu)化的成核 ? 表面織構(gòu)化無法形成 制絨注意事項 ? 加強制絨前硅片表面的處理，包括表面的清洗及去除損傷層（粗拋） ? 控制硅酸鈉含量，包括 粗拋 及 制絨 兩道工序 表面油脂去除方案 ? 有機溶劑 +超聲 —— 有機溶劑溶解有機物質(zhì) ? 酸性液體去除法 —— 如 RCA工藝：熱硫酸煮硅片 ? 表面活性劑 ? NaOCl熱處理 —— 利用 O自由基的強腐蝕性 方案一、利用 NaOCl預(yù)清洗 實驗條件 1 2 傳統(tǒng)織構(gòu)化工藝 NaOH (8%， 75?C， 2min) NaOH(2%)+IPA(7%) 新工藝條件 NaOCl(12%， 80?C， 15min) NaOH(2%)+IPA(7%) 硅片表面的沾污之一 FTIR譜 存在： C=O拉伸鍵 SCO鍵 烷基硫酸鹽 硅片表面的沾污之二 FTIR譜 存在 Triazines (C3N3Y3) 存在沾污的結(jié)果 新的清洗工藝 注：去損傷層使用 10%的 NaOCl 清洗后表面 FTIR譜之一 清洗后表面 FTIR譜之二 新工藝處理后的硅片表面 結(jié)果比較 Ganggopadhyay et al: Solar Energy Materials amp。 ?硅片經(jīng)過熱堿處理后提出在空氣中，時間過長會與空氣中的氧反應(yīng)形成一層氧化層，這層氧化層一旦形成就很難再清洗下去了。如果潤滑劑過粘，會出現(xiàn)無法有效進入刀口的現(xiàn)象，
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