納米科學(xué)與微納制造復(fù)習(xí)材料-資料下載頁
2025-04-17 08:32本頁面
【正文】 相同負(fù)型（Negative）光刻膠：所產(chǎn)生的圖案與掩模版上的相反29. 納米壓印模板材料選擇需注意哪些問題？選擇模板材料的關(guān)鍵在于它們的機(jī)械特性。包括硬度，熱膨脹系數(shù)和導(dǎo)熱性。通常要求模板材料硬度和拉伸強(qiáng)度高，熱膨脹系數(shù)小，抗腐蝕性好，確保模版耐磨，變形小，從而保證其壓印精度和使用壽命。30. 熱壓印法的工藝過程分三步: 壓模制備、壓印過程、圖形轉(zhuǎn)移31. 熱壓印的基本原理：利用電子束刻印技術(shù)或其他先進(jìn)技術(shù)，把堅(jiān)硬的壓模毛坯加工成一個(gè)壓模: 然后在用來繪制納米圖案的基片上旋涂一層聚合物薄膜，將其放人壓印機(jī)加熱并且把壓模壓在基片上的聚合物薄膜上，再把溫度降低到聚合物凝固點(diǎn)附近并且把壓模與聚合物層相分離，就在基片上做出了凸起的聚合物圖案(還要稍作腐蝕除去凹處殘留的聚合物)32. 紫外壓印的工藝流程：1. 首先都必須準(zhǔn)備一個(gè)具有納米圖案的模版，而UVNIL的模版材料必須使用可以讓紫外線穿透的石英；2. 并且在硅基板涂布一層低粘度、對(duì)UV感光的液態(tài)高分子光刻膠；3. 在模版和基板對(duì)準(zhǔn)充成后，將模版壓入光刻膠層并且照射紫外光使光刻膠發(fā)生聚合反應(yīng)硬化成形；4. 然后脫模、進(jìn)行刻蝕基板上殘留的光刻膠便完成整個(gè)UVNIL33. 自組裝納米加工一般具有如下4個(gè)特征：①由個(gè)體集合形成整體組織或系統(tǒng)的過程是自發(fā)的、自動(dòng)的。自發(fā)意味著一旦條件滿足,個(gè)體組裝成整體的過程自然起始；自動(dòng)意味著在組裝過程中不需要人為干涉進(jìn)程。因此，自組裝是個(gè)體之間相互作用的結(jié)果。②個(gè)體之間的結(jié)合是非共價(jià)鍵力的結(jié)合。微觀層次的自組裝依賴于分子間 的吸引或排斥力，其中最常見的是氫鍵作用力，即通過氫鍵將不 同分子鏈接成不同分子結(jié)構(gòu)系統(tǒng)③組成整體組織或系統(tǒng)的個(gè)體必須能夠自由運(yùn)動(dòng)或遷移。只有個(gè)體能夠自 由運(yùn)動(dòng)才能發(fā)生個(gè)體之間的相互作用，才能有自組裝過程發(fā)生，所以分子或微觀粒子的自組裝一般是在液體環(huán)境中或固體表面發(fā)生。④自組裝形成的整體組織或系統(tǒng)是個(gè)體相互作用的熱力學(xué)平衡或能量平衡的結(jié)果。在平衡條件下，個(gè)體之間保持等距離和長程有序周期分布，而不是隨機(jī)聚集。34. 實(shí)驗(yàn)納米粒子自組裝需滿足三個(gè)條件；①納米粒子必須能夠自由運(yùn)動(dòng)，以發(fā)生相互作用②納米粒子必須足夠小，才能讓懸浮液中的納米粒子能自發(fā)的做布朗運(yùn)動(dòng)③粒子直徑應(yīng)當(dāng)均勻一致。35. 納米粒子組裝成的二維或三維類晶體結(jié)構(gòu)的用途：1)直接用來作為光子晶體材料,或高密度磁存儲(chǔ)介質(zhì)2)作為母版，由其翻制成其他材料的周期性納米結(jié)構(gòu)。36. 刻蝕：利用化學(xué)或物理方法將未受光刻膠保護(hù)部分的材料從表面逐層清除刻蝕的兩個(gè)基本參數(shù)：一是掩模的抗刻蝕比，二是刻蝕的方向性，或各向異性度37. 化學(xué)濕法刻蝕技術(shù)：所謂濕法泛指所用應(yīng)用化學(xué)腐蝕液體的腐蝕方法38. 反應(yīng)離子深刻蝕工藝中存在的問題：①負(fù)載效應(yīng)。是指局部刻蝕氣體的消耗大于供給引起的刻蝕速率下降或分布不均勻效應(yīng)。包括3種：宏觀負(fù)載效應(yīng)、微觀負(fù)載效應(yīng)、以及與深寬比有關(guān)的負(fù)載效應(yīng)②微溝槽效應(yīng)。是指深刻蝕中邊角的刻蝕深度大于中心部分刻蝕深度的一種表現(xiàn)③缺口效應(yīng)?？涛g速率快的圖形在刻蝕到二氧化硅隔離層后并沒有完全停止，而是繼續(xù)沿著二氧化硅隔離層表面橫向方向刻蝕，形成所謂“缺口”效應(yīng)39. 代表深刻蝕技術(shù)的目前水平是線寬為16nm硅線結(jié)構(gòu)。 7 / 7
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