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cvd化學(xué)與薄膜工藝(留存版)

2025-02-20 14:15上一頁面

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【正文】 eous species i free energy of formation of gaseous species i P total pressure T temperature R gas constant i0fG (g)?上式中: i0fG (c)?19 根據(jù)體系限制條件 ——特定元素的原子數(shù)目必然守恒 msj i j i i j ii = 1 i = 1b = a ( g ) n ( g ) a ( c) n ( c )???bj:元素 j在初始混合物中的 mole數(shù) ( j=1, 2, 3……w ) 共有 w個(gè)元素,從而得到 w個(gè)元素的守恒方程 (共有 w個(gè)限制條件 (物質(zhì)守恒 )) aij:為在分子物種 i中 j元素的原子數(shù) ( B) 例如: CH4中定義 i=1, j=1代表 C; j=2代表 H a11=1, a12=4 C2H6中 i=2, j=1代表 C; j=2代表 H a21=2, a22=6 20 這樣就把解決問題變?yōu)椋? 受 ( B) 限制求 ( A) 式的極小值 有若干方法: Cruise,., Notes on the rapid putation of Chemical equilibrium in plex mixtures.. :3797(1964) Eriksson,G. ,“Thermodynamic studies of high temperature :2651(1971) …… 21 舉個(gè)實(shí)際例子: Nb- Ge- Cl- H system Wan,., and Spear,.., in : International conference on Chemical Vapor Deposition (, , , eds.) , Electrochemical Society, Princeton NJ(1977). 2H HCl, 2H HCl,Nb Ge2H435N bC l G eC lN bC lxx 23NbC l Ge C l HNb Ge +HC l???可參見圖 7- 13( 213 頁 22 對(duì)體系內(nèi)物種進(jìn)行分析: ( g) : Nb, Ge, H2, Cl2, HCl, H, GeCl, GeCl2, GeCl4, GeH4, GeH3Cl, GeH2Cl2, GeHCl3, Ge2Cl6, NbCl4, NbCl5; ( S) : , , NbCl3, , , , , NbGe2, Nb, Ge, ——見原文 23 ( III)自由能降低法計(jì)算 (見化工熱力學(xué)書 P538) , 1 2 3( 39。 圖 37(a)取樣分析圖 氣體入口取樣毛細(xì)管(位置可移動(dòng)) 石英反應(yīng)管0x控溫系統(tǒng)電爐 廢氣接真空泵針閥(控制取樣速度)壓
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