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光催化分解水的研究進(jìn)展(留存版)

2025-07-10 01:35上一頁面

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【正文】 problem for uphill reactions. 光催化 (i) Stoichiometry of H2 and O2 evolution. (ii) Time course. (iii) Turnover number (TON) (iv) Quantum yield. (v) Photoresponse. 光催化 半導(dǎo)體復(fù)合型光催化劑 半導(dǎo)體復(fù)合的目的在于促進(jìn)體系光生空穴和電子的分離 , 以抑制它們的復(fù)合 , 本質(zhì)上可以看成是 一種顆粒對另一種顆粒 的修飾 , 其修飾方法包括簡單的組合 , 摻雜 , 多層結(jié)構(gòu)和異相組合 ,插層復(fù)合等 。 ② 光生載流子 (電子和空穴 ) 的 電位必須分別滿足將水還原成 氫氣和氧化成氧氣的要求。 光催化 制 取 氫 的 方 法 ?利 用 天 然氣 、石 油 、煤等化石能源通過熱化 學(xué)法制氫 ;(技術(shù)成熟,不經(jīng)濟,不環(huán)保) ?電解水制氫 ;(能耗大) ?通過熱化學(xué)及生物化學(xué)分解生物質(zhì)制氫; (技術(shù)路徑復(fù)雜) ? 光催化分解水制氫 。 光催化 光催化 作為層狀復(fù)合氧化物的代表 , K4Nb6O17 具有兩種不同的層空間 (層 Ⅰ 和層 Ⅱ )交錯形成的二維結(jié)構(gòu) , 大部分負(fù)載的助催化劑 NiO經(jīng)過氧化還原處理后的超細(xì) Ni粒子 (0 . 5 nm)進(jìn)入層Ⅰ , 少數(shù)沉積在催化劑表面 . 紫外光 輻照下光生電子在層 Ⅰ 還原水制氫氣 , 光生空穴在層 Ⅱ 氧化水制氧氣 . 光催化 La摻雜的 Ni O /NaTaO3催化劑的掃描電鏡結(jié)果表明 , 摻入 La以后催化劑顆粒變小 (0 . 1~ 0 . 7μm) , 結(jié)晶度變高 , 并且具有非常獨特的階梯形表面結(jié)構(gòu) . 作者認(rèn)為 La摻雜之后引起的顆粒尺寸減小和
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