吸波體性能分析(2)(專業(yè)版)
【正文】 對于問題2的求解集中在求靜區(qū)接收到的電磁能量大??；我們對問題入下分解：（一）、在弧和靜區(qū)中心點構(gòu)成的平面內(nèi)討論；即弧發(fā)出的電磁波只在該平面發(fā)生反射進入靜區(qū)。由射向角（軸正向與入射線負方向的夾角）和方位角（軸正向與射線在平面上投影的夾角）確定入射波線的方向，只考慮波在兩種不同介質(zhì)界面處的反射，不考慮邊緣處的繞射。平板形狀吸波體的主要性能指標是電磁波從空間向材料表面垂直入射（入射角）時的反射率，其值越小，吸波性能越高。本工作主要是從數(shù)學的觀點，簡化模型，把電磁波近似做光波處理，利用幾何光學反射原理計算出尖劈型吸波材料性能與幾何參數(shù)之間的關(guān)系。當入射角時稱為斜入射時， ，其中為入射角大小，其中為垂直入射反射率。可求得到反射線與直線的焦點。并且在上述假設(shè)下，根據(jù)提供的數(shù)據(jù)，通過對模型的分析與數(shù)值計算，判斷這樣的微波暗室在水平方向是可以控制在內(nèi)，但是豎直方向的，不在該范圍之內(nèi)，所以整體合成后不能控制在內(nèi)，即這樣的微波暗室不能滿足仿真技術(shù)的要求。二、考慮立體三維情況。設(shè)靜區(qū)從諸墻面得到的反射信號的功率之和與從信號源直接得到的微波功率之比為。關(guān)鍵詞：輻射強度 余弦發(fā)射體 微波功率參賽隊號：10755002參賽隊員：高新豫 張崧 景維龍一、問題重述 對于第一個問題，為了解決尖劈型吸波材料的性能測定，利用幾何光學原理，建立入射波線在一個尖劈幾何空缺間反射過程的數(shù)學模型，刻畫最終反射波線的方向，反射次數(shù)，反射波的輻射強度與已知反射率、諸幾何參數(shù)之間的定量關(guān)系。對于問題二我們對實驗條件先加強， 發(fā)射體發(fā)射光線簡化為一個水平平面，得到該平面上所發(fā)生的各種反射情況和次數(shù)，并且進一步構(gòu)造一個垂直的平面，同樣得到該平面上發(fā)生的反射情況和次數(shù)；最后對這兩個垂直平面上的效果疊加和題
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