【正文】 3 28. MRI成像基礎(chǔ)是（D．組織間質(zhì)子密度和馳豫時(shí)間的差別）P3 39. MRI最常選擇1H作為成像的元素，主要原因是(E．1H磁化率高，在生物組織中原子數(shù)量最多) P5 111. MRI可任意方向切層，決定切層方向的是（B．梯度脈沖）P13 112. MRI掃描時(shí)間的決定因素是（C．重復(fù)時(shí)間TR，重復(fù)采樣次數(shù)，相位編碼數(shù)Gp）P13 119. MRI磁體容器中裝有線圈，以下哪一組答案為最佳(A．主磁場線圈．梯度線圈．射頻發(fā)射／接收線圈．勻場線 137. MRI摑描程序直接控制的內(nèi)容沒有(E．冷頭的工作頻率) P15 138. MRI的均勻性是以主磁場的多少作為一個(gè)偏差單位表示的(C．百萬分之一) P15 141. MRI設(shè)備不包括（E．高壓變壓器）P16 75. MRI可提供多種信息，其中描述錯誤的是（D．組織密度值）P9 76. MRI的特性，描述錯誤的是（A．有一定的電離輻射）P9 82. MRI的成像基礎(chǔ)基于(B．組織間弛豫時(shí)間的差別) P10 83. MR圖像與CT圖像相比優(yōu)越性表現(xiàn)為(E．軟組織對比分辨率高 ) P10 84. MRI成像的表現(xiàn)錯誤的是(E．可以顯示鈣化灶) P10 101. MRA成像時(shí)沒有用到流體的__特性(D．表面張力) P12 151. MR信號在A/D轉(zhuǎn)換時(shí)需要的電平約為（D．10V左右）P17 154. MRI設(shè)備的組成不包括(E．滑環(huán)系統(tǒng) ) P17 18MRI掃描程序直接控制的內(nèi)容有（E、以上均正確）P21 183. MRI圖像重建模塊完成了（A、數(shù)據(jù)采集與初步運(yùn)算）P21 184. MRI設(shè)備的安裝工作不包括(E．空調(diào)與水冷機(jī)) P21 185. MRI設(shè)備的調(diào)試工作不包括(E．指導(dǎo)應(yīng)用掃描) P21 186. MRI設(shè)備的安裝前期工作不包括（C．輻射防護(hù)制作）P21 187. MRI設(shè)備的安裝時(shí)環(huán)境測量工作不包括(E．輻射防護(hù)測量) P21 188. MRI設(shè)備的裝配工作不包括（C．球管裝配）P21 189. MRI設(shè)備的裝配工作不包括(C．探測器裝配 ) P21 201. MRI環(huán)境測量時(shí)一般使用的儀表是(C．高斯儀 ) P22 217. MRI調(diào)整后要備份的不包含(E．磁體編號) P24 235. MRI設(shè)備安裝前對磁體要做的檢查項(xiàng)目不包括(B．磁體的濕度) P26 237. MRI設(shè)備的裝配工作不包括(E．監(jiān)控設(shè)備) P26 238. MRI設(shè)備的裝配工作不包括(A．液氦的首次灌注) P26 241. MRI、設(shè)備的安裝工作包括（E、以上都正確）P27 24MRI設(shè)備的調(diào)試工作包括（E、以上都正確）P27 24MRI設(shè)備的裝配工作包括（E、以上都正確）P27 24MRI設(shè)備間的連接線（管）有（A、以下都正確）P27 262. MRI成像中，哪些因素與圖像的對比度無關(guān)(D．射頻系統(tǒng) ) P30 28MR成像中，哪些與圖像的對比度有關(guān)（D、所有答案均正確）P32 295. MRI圖像的偽影來自于(E．能被接受到的干擾) P33 298. MR成像過程中，金屬產(chǎn)生偽影是因?yàn)樗ǎ㏄35 307. MR成像過程中產(chǎn)生故障的原因，大體分類為（E．多方面因素）P36 317. MRI磁體產(chǎn)生的磁場表述不正確的是(C．磁體的發(fā)散磁場強(qiáng)弱各方向相同) P37 318. MRI磁體超導(dǎo)環(huán)境的建立不正確的描述(E．水冷機(jī)直接冷卻磁體) P37 33MRI磁體產(chǎn)生的磁場表述正確的是（C、磁體的雜散磁場強(qiáng)弱不同）P39 33MRI磁體超導(dǎo)環(huán)境的建立（E、以上都正確）P39 1 360. MRI檢查的禁總證不包含(E．偏胖體形 ) P43 367. MR造影劑的增強(qiáng)機(jī)制為（B．改變局部組織的磁環(huán)境間接成像）P43 40MRI檢查的禁忌證為(E、以上都正確）P46 134. MRI裝置所不包含的內(nèi)容有（C．高壓發(fā)生系統(tǒng)）P15 1．磁共振成像中，主要針對人體內(nèi)的成像物質(zhì)是（B．氫質(zhì)子）P1 6．磁共振利用梯度進(jìn)行層面選擇時(shí)，可以減小層厚的條件是(C．射頻脈沖帶寬不變，梯度場加大斜率) P1 8．磁共振成像時(shí)，K空間數(shù)據(jù)與實(shí)際磁共振圖像的關(guān)系是（A．先有K空間數(shù)據(jù)，再有實(shí)際磁共振圖像）P1 （D．目前成像速度快于CT）P3 ，K空間數(shù)據(jù)與實(shí)際磁共振圖像的關(guān)系是(A． K空間中心區(qū)域的數(shù)據(jù)，決定了磁共振圖像的信噪比) P8 115．磁體的主要技術(shù)指標(biāo)不包含(C．磁場方向 ) P13 （A．微伏級）P17 (E．使用年限) P17 16磁體的主要技術(shù)指標(biāo)，（E、以上全部正確）P18 (B．相對值) P22 1939。脈沖至下一個(gè)90。影響磁體的均勻度的主要因素不是（D．磁體的重量）P27 ，管路不包括(E．冷卻水管路) P26 (C．Tl不變，T2縮短 ) P12 （D．磁體單元，梯度單元．射頻單元．制冷單元．圖像處理單元） P13 (E．恒溫恒濕空調(diào)) P13 6 (B．加熱過程) P13 （E．使磁體環(huán)境溫度達(dá)負(fù)17