吸波體性能分析(2)(更新版)
【正文】 據(jù)，通過(guò)對(duì)模型的分析與數(shù)值計(jì)算，判斷這樣的微波暗室能否能滿足仿真技術(shù)要求？何時(shí)靜區(qū)從諸墻面得到的反射信號(hào)的功率之和與從信號(hào)源直接得到的微波功率之比值最?。拷又笥?jì)算時(shí)的情況。本工作主要是從數(shù)學(xué)的觀點(diǎn)，簡(jiǎn)化模型，把電磁波近似做光波處理，利用幾何光學(xué)反射原理計(jì)算出尖劈型吸波材料性能與幾何參數(shù)之間的關(guān)系。對(duì)于三維空間的情況，我們利用光的分解把已知光線分解成為兩個(gè)垂直面內(nèi)的光線，進(jìn)而利用二維的情況得到三維情況。平板形狀吸波體的主要性能指標(biāo)是電磁波從空間向材料表面垂直入射（入射角）時(shí)的反射率，其值越小，吸波性能越高。問(wèn)題二考慮的是無(wú)回波暗室的性能；無(wú)回波暗室能夠屏蔽外界干擾信號(hào)，通過(guò)內(nèi)墻（包括地面與天頂面）敷設(shè)的吸波體，吸收各類(lèi)反射信號(hào)，使室內(nèi)反射大為減弱，被測(cè)設(shè)備接收到的“似乎”只有測(cè)試信號(hào)源發(fā)出的實(shí)驗(yàn)所需信號(hào)，即被測(cè)設(shè)備的接收到從墻面反射信號(hào)相對(duì)小。由射向角（軸正向與入射線負(fù)方向的夾角）和方位角（軸正向與射線在平面上投影的夾角）確定入射波線的方向，只考慮波在兩種不同介質(zhì)界面處的反射，不考慮邊緣處的繞射。反射波輻射強(qiáng)度為第二步：如果時(shí)，說(shuō)明高度低于h，則在線段上，為第二個(gè)反射點(diǎn)。對(duì)于問(wèn)題2的求解集中在求靜區(qū)接收到的電磁能量大小；我們對(duì)問(wèn)題入下分解：（一）、在弧和靜區(qū)中心點(diǎn)構(gòu)成的平面內(nèi)討論；即弧發(fā)出的電磁波只在該平面發(fā)生反射進(jìn)入靜區(qū)。參考文獻(xiàn)1. 劉順華等，電磁波屏蔽及吸波材料，化學(xué)工業(yè)出版社，2. Bhag Singh Gurn, Huseyin R. Hiziroglu, Electromagnetic Field Theory Foundamentals,，張肅文等譯，機(jī)械工業(yè)出版社，2000，應(yīng)用光學(xué)，機(jī)械工業(yè)出版社，1988， ， 9
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