表面活性劑光降解催化(完整版)
【正文】 ppt制作 : 09 小劉 演講： 09 小多 4 目前，針對(duì)表面活性劑的降解處理常用方法有吸附降解、焚燒降解、生物降解等， 而最有應(yīng)用前景、研究最活躍的技術(shù)是光催化降解技術(shù)。 9 ? Gim— Yang Pee提出光催化空化降解的熱力學(xué)模型，定義在空化降解中的熱量可以表示為： CT?( A x )|dtdmc |dtdTP d i s s 0tp0t ?? ??其中： m為基質(zhì)的質(zhì)量， Cp為基質(zhì)比熱容， 為在超聲波輻射下，溫度隨時(shí)間的變化率， Tp為溫度的比熱容， A為表面活性劑濕的表面積， x為管壁的厚度， 為管壁的密度 0| ?tdtdT?10 光降解催化劑 光催化劑的作用機(jī)理是當(dāng)光照射至催化劑表面時(shí)，能量大于禁帶寬度的光電子被吸收，而將價(jià)帶的電子激發(fā)到導(dǎo)帶，在半導(dǎo)體中產(chǎn)生光電子和空穴。另外， pH值還可以通過(guò)改變表面活性劑的氧化還原電位，從而改變其中催化劑表面的吸附來(lái)影響反應(yīng)速率。 22 發(fā)展前景 由于光催化降解是近 30年發(fā)展起來(lái)的新研究領(lǐng)域，現(xiàn)在還基本停留在理論研究階段，實(shí)際應(yīng)用
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