太陽(yáng)能電池片pecvppt課件(完整版)
【正文】 不宜過(guò)大，超過(guò) 1W/cm2時(shí)器件會(huì)造成嚴(yán)重的射頻損傷。 ? 吸入高濃度的硅烷會(huì)引起頭痛、惡心、頭暈并刺激上呼吸道。 ? 吸入：將人員移到空氣清新處，若呼吸困難，則輸氧，并迅速進(jìn)行醫(yī)務(wù)處理。 ? 氨氣會(huì)嚴(yán)重灼傷眼、皮膚及呼吸道。 PECVD對(duì)電性能影響 ? 的利用率，有助于提高光生電流密度，起到提高電流進(jìn)而提高轉(zhuǎn)換效率的作用。 PECVD的目的 ? 在太陽(yáng)電池表面沉積深藍(lán)色減反膜 SiN膜。 ? H的鈍化機(jī)理 : ? 主要原因是 :H能與硅中的缺陷或雜質(zhì)進(jìn)行反應(yīng)，從而將禁帶中的能帶轉(zhuǎn)入價(jià)帶或者導(dǎo)帶。 PECVD的工藝原理 ? 通入的特氣（硅烷和氨氣）在高溫和微波源的激發(fā)下電離，形成等離子態(tài)，并沉積在硅片的表面。過(guò)度暴露會(huì)影響中樞神經(jīng)系統(tǒng)并會(huì)造成痙攣和失去知覺(jué)。嚴(yán)重時(shí)會(huì)致命。 PECVD的影響因素 ? 1．頻率 ? 射頻 PECVD系統(tǒng)大都采用 50kHz~ MHz的工業(yè)頻段射頻電源。為了防止富硅膜，選擇 NH3/SiH4=2~20（體積比）。 PECVD設(shè)備 PECVD設(shè)備 PECVD設(shè)備 ? 設(shè)備結(jié)構(gòu) ? 晶片裝載區(qū) ? 爐體 ? 特氣柜 ? 真空系統(tǒng) ? 控制系統(tǒng) PECVD設(shè)備結(jié)構(gòu) PECVD晶片裝載區(qū) ? 槳、 LIFT、抽風(fēng)系統(tǒng)、 SLS系統(tǒng)。 ? 蝶閥：可以根據(jù)要求控制閥門的開(kāi)關(guān)的大小，來(lái)調(diào)節(jié)管內(nèi)氣壓的 PECVD控制系統(tǒng) ? 控制系統(tǒng) CMI:是 Centrotherm 研發(fā)的一個(gè)控制系統(tǒng)，其中界面包括 Jobs（界面） 、 System（系統(tǒng)）、 Catalog（目錄）、 Setup（軟件）、 Alarms（報(bào)警）、Help（幫助） . ? Jobs:機(jī)器的工作狀態(tài)。 加熱腔： 在工藝中起著加熱的作用 。 Thank you! 。 進(jìn)料腔與出料腔 防止特色氣體溢出 , 增加安全性 . 使電池片體逐漸降低溫度 冷卻水＊６ 石英管＊６ 溫度設(shè)置 速度設(shè)置 氣壓設(shè)置 設(shè)置功率 實(shí)際功率 反射比率 角閥 氣體流量 冷卻水＊４ PECVD等離子體源簡(jiǎn)圖 微波發(fā)生器 真空腔 基片 PECVD電池片檢驗(yàn)標(biāo)準(zhǔn) ? 看顏色是否合格（合格的顏色為深藍(lán)，藍(lán)色，淡藍(lán)） ? 色差和水印不超過(guò)整體面積的 5% ? 鍍膜后的折射率在
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