【摘要】1.如圖所示,折射率為、厚度為e的透明介質(zhì)薄膜的上方和下方的透明介質(zhì)的折射率分別為和,已知。若用波長為的單色平行光垂直入射到該薄膜上,則從薄膜上、下兩表面反射的光束①與②的光程差是(A)(C)(B)(D)2n1n
2025-05-06 03:57
【摘要】光學(xué)干涉教學(xué)基本要求:一,理解相干光的條件及獲得相干光的方法。二,掌握光程的概念以及光程差和相位差的關(guān)系,理解在什么情況下的反射光有相位躍變。三,能分析楊氏雙縫干涉條紋及薄膜等厚干涉條紋的位置。四,了解邁克耳孫干涉儀的工作原理?!?光波的相干疊加原理一、光是一種波平面電磁波方程
2025-05-06 03:56
【摘要】一、光的本性第三篇波動光學(xué)牛頓的微粒說:光是由光源發(fā)出的微粒流?;莞沟牟▌诱f:光是一種波動。1801年,英國物理學(xué)家托馬斯·楊首先利用雙縫實(shí)驗(yàn)觀察到了光的干涉條紋,從實(shí)驗(yàn)上證實(shí)了光的波動性。1865年,英國物理學(xué)家麥克斯韋從他的電磁場理論預(yù)言了電磁波的存在,并認(rèn)為光就是一種電磁波
2025-01-19 03:05
【摘要】1§14-6分波前干涉一、楊氏干涉1.實(shí)驗(yàn)裝置2.實(shí)驗(yàn)結(jié)果分析S1S2S由圖知?=r2?r1干涉項(xiàng)cos2??/??S1S2SDxa1r2rpoaP點(diǎn)亮條紋條件22Δk????即22?kΔ?k
2025-05-06 08:34
【摘要】§2雙縫干涉實(shí)驗(yàn)mmmmd~?cmcm101~??mmD101~?1、裝置的結(jié)構(gòu)2、滿足相干條件(1)有相互平行的振動分量。(2)S1和S2來自同一點(diǎn)源S,頻率相同。(3)雖然每一個波列的初相位不相同,但在觀察屏幕上相遇的是同一個波列,0?因此有
2025-05-06 18:03
【摘要】光的干涉一選擇題1.在真空中波長為l的單色光,在折射率為n的透明介質(zhì)中從A沿某路徑傳播到B,若A、B兩點(diǎn)相位差為3p,則此路徑AB的光程為(A)λ.(B)λ/n.(C)nλ.(D)3λ.
2025-05-06 03:54
【摘要】光學(xué)是研究光的本性,光的傳播,光與物質(zhì)相互作用以及光在科學(xué)研究和技術(shù)中各種應(yīng)用的科學(xué)分類:幾何光學(xué)(h≈0,λ≈0)物理光學(xué)波動光學(xué)(h≈0,?≠0)量子光學(xué)(h≠0,?≠0)本課只討論波動光學(xué):包括干涉、衍射、偏振波動光學(xué)的理論基礎(chǔ)是電磁場理論。下頁上頁結(jié)束返回一、光源光源的最基本
2025-05-06 04:17
【摘要】光學(xué)測試技術(shù)2022年6月1日第四章光學(xué)干涉測量技術(shù)干涉技術(shù)和干涉儀在光學(xué)測量中占有重要地位。近年來,隨著數(shù)字圖像處理技術(shù)的不斷發(fā)展,使干涉測量這種以光波長作為測量尺度和測量基準(zhǔn)的技術(shù)得到更為廣泛的應(yīng)用。?在光學(xué)材料特性參數(shù)測試方面,用干涉法測量材料折射率精度可達(dá)10-6;對材料光學(xué)均勻性的測量精度則可達(dá)10-7;
2025-05-12 05:06
【摘要】平行平板的干涉為了獲得較高的對比度,分波面干涉對于光源的尺寸和干涉孔徑角有嚴(yán)格的限制。這使得:。。因此多數(shù)干涉儀器采用分振幅方法,優(yōu)點(diǎn)在于:。。采用單色擴(kuò)展光源時,楊氏干涉條紋的對比度:???????λlndbKsinc對比度V不隨考察點(diǎn)變化,我們把這種對比度不隨考察點(diǎn)位置變化的
2025-01-14 09:01
【摘要】大學(xué)物理學(xué)光學(xué)(Optics)2【本節(jié)講授目錄】?掌握光程的概念以及光程差和相位差的關(guān)系.?理解相干光的條件及獲得相干光的方法.?理解、掌握楊氏雙縫干涉特征及條紋分布.【教學(xué)基本要求】1光學(xué)發(fā)展簡介2光學(xué)基本概念相干光3楊氏雙縫干涉實(shí)驗(yàn)勞埃德鏡*雙鏡干涉實(shí)驗(yàn)*
2025-05-02 12:08
【摘要】1§14-6分波前干涉一、楊氏干涉1.實(shí)驗(yàn)裝置1s2s明條紋位置明條紋位置明條紋位置S22.實(shí)驗(yàn)結(jié)果分析由圖知?=r2?r1干涉項(xiàng)cos2??/??S1S2SDxa1r2rp
【摘要】全息干涉計(jì)量2022/6/31實(shí)時全息干涉:?用適當(dāng)?shù)某上笙到y(tǒng)觀察記錄可得到試件變形或運(yùn)動的時間歷程信息?操作工藝:?全息單曝光記錄試件初始狀態(tài)?對單曝光底片做光化學(xué)(顯、定影)處理?把處理好的全息干板準(zhǔn)確放回原處?用原參光做再現(xiàn)照明光,在試件原來位置得到復(fù)制的原物光波(虛像)?試件發(fā)生變形
2025-05-06 04:45