【摘要】二○一○年深圳集成電路產(chǎn)業(yè)總結匯報周生明國家集成電路設計深圳產(chǎn)業(yè)化基地二○一一年一月七日金虎辭舊歲,祥兔報春來。國家集成電路設計深圳產(chǎn)業(yè)化基地向多年來熱誠支持、積極參與深圳集成電路行業(yè)發(fā)展的各位領導、各位專家、各界朋友、海內外同仁表示衷心的感謝!值此辭舊迎新之際,衷心的祝愿大家在新
2025-03-09 12:03
【摘要】集成電路工藝原理第七章離子注入原理(上)1集成電路工藝原理集成電路工藝原理第七章離子注入原理(上)2大綱第一章前言第二章晶體生長第三章實驗室凈化及硅片清洗第四章光刻第五章熱氧化第六章
2025-01-08 13:40
【摘要】集成電路Contentsv集成電路的定義v集成電路的分類v集成電路的工藝微電子技術課程ppt微電子技術課程ppt集成電路定義v集成電路(integrated?circuit)是一種微型電子器件或部件。采用一定的工藝,把一個電路中所需的晶體管、二極管、電阻、電容和電感等元件及布線互連
2025-01-08 12:24
【摘要】1第四章集成電路器件工藝雙極型集成電路的基本制造工藝MESFET和HEMT工藝MOS工藝和相關的VLSI工藝BiCMOS工藝2第四章集成電路器件工藝表3圖幾種IC工藝速度功耗區(qū)位圖4雙極型集成電路的基本制造工藝MESFET和HEMT工藝MOS工藝和相關的V
2025-01-06 18:35
【摘要】現(xiàn)代集成電路制造工藝原理山東大學信息科學與工程學院王曉鯤第十一章淀積?膜淀積?化學氣相淀積?CVD淀積系統(tǒng)?介質及其性能?旋涂絕緣介質?外延薄膜和薄膜淀積?薄膜,指一種在襯底上生長的薄固體物質。?薄膜淀積,是指任何在硅片襯底上物理淀積一層膜的工藝。這層膜可
2025-02-07 11:09
【摘要】第二章制造工藝本章分為四部分:紫外線光掩模版光刻膠可進行摻雜,離子注入,擴散等工藝n版圖是集成電路從設計走向制造的橋梁,它包含了集成電路尺寸、各層拓撲定義等器件相關的物理信息數(shù)據(jù)。n版圖(Layout)集成電路制造廠家根據(jù)這些數(shù)據(jù)來制造掩膜。掩模版的作用n掩膜上的圖形決定著芯片上器件或連接物理層的尺寸
2025-01-23 10:42
【摘要】2022/2/4共88頁1Spectre/Virtuoso/Calibre工具使用介紹2022/2/4共88頁2模擬集成電路的設計流程(spectre)(virtuoso)(DRCLVS)(calibre)(calibre)(spectre)(gdsii
2025-01-07 21:47
【摘要】?????5.集成電路的發(fā)展對硅片的要求1半導體材料?目前用于制造半導體器件的材料有:元素半導體(SiGe)化合物半導體(GaAs)?本征半導體:不含任何雜質的純凈半導體,其純度在%(8~10個9)。
【摘要】第八章專用集成電路和可編程集成電路???????、標準單元與可編程集成電路的比較?專用集成電路(ASIC)被認為是用戶專用電路(customspecificIC),即它是根據(jù)用戶的特定要求.能以低研制成本、短交貨周期供貨的集成電路。它最主要的優(yōu)點在于:?(1)
2025-01-17 09:42
【摘要】第三章CMOS集成電路工藝流程白雪飛中國科學技術大學電子科學與技術系?多晶硅柵CMOS工藝流程?可用器件?工藝擴展提綱2多晶硅柵CMOS工藝流程?初始材料–重摻雜P型(100)襯底硅,P+–減小襯底電阻,提高抗CMOS閂鎖效應能力?外延生長–在襯底
2025-02-07 10:42
【摘要】123456789101112131415161718192021222324252627
2025-08-05 16:51
【摘要】第四章集成電路制造工藝芯片制造過程?圖形轉換:將設計在掩膜版(類似于照相底片)上的圖形轉移到襯底上。?摻雜:根據(jù)設計的需要,將各種雜質摻雜在需要的位置上,形成晶體管、接觸等。?制膜:制作各種材料的薄膜?;静襟E:硅片準備、外延、氧化、摻雜、淀積、刻蝕、光刻硅片準備光刻(Lithography)圖形轉移
2025-03-01 12:22
【摘要】2023年中國集成電路行業(yè)簡析一、2023年我國集成電路行業(yè)簡況1、2023年中國半導體產(chǎn)業(yè)狀況??受到全球市場需求乏力影響,國內半導體產(chǎn)業(yè)增速與2023年相比大幅下滑,2023年產(chǎn)業(yè)銷售額同比增長%,銷售額。產(chǎn)量為,同比增長%。???2023年IC設計業(yè)銷售額,同比大幅增長%;芯片制造業(yè)銷售收
2025-01-14 09:24
【摘要】1集成電路工藝信息學院電子科學與技術2?參考書:?.Chang,.Sze,“ULSITechnology”?王陽元等,“集成電路工藝原理”?M.Quirk,J.Serda,“半導體制造技術”?成績計算:?平時成績(出勤、作業(yè)、小測驗)20%+期終考試
2025-01-08 13:07
【摘要】2023/1/281第3章IC制造工藝外延生長掩膜制作光刻原理與流程氧化淀積與刻蝕摻雜原理與工藝?關心每一步工藝對器件性能的影響,讀懂PDK,挖掘工藝潛力。2023/1/282外延生長(Epitaxy)外延生長的目的n半導體工藝流程中的基