液體噴射拋光技術(shù)ppt課件-文庫吧在線文庫
【正文】 頭的運(yùn)動(dòng)方式及路徑 應(yīng)用型研究 一、消除高頻誤差 73 （二）、改變射流的特性 ? 加入新的媒質(zhì) 比如利用三相射流脈動(dòng)射流 ? 采用其它性質(zhì)的拋光液 采用粘滯系數(shù)大的液體 應(yīng)用型研究 一、消除高頻誤差 注：國防科大正在從事磁性磨料射流拋光 74 （一）、拋光頭的運(yùn)動(dòng)方式及路徑 ? 根據(jù)去除函數(shù)為 W型，從理論上具體研究拋光頭及工件的運(yùn)動(dòng)方式及路徑，以實(shí)現(xiàn)快速修正面形的目的 ? 現(xiàn)有設(shè)備的局限：噴管只能作一維運(yùn)動(dòng) —— 只能對(duì)旋轉(zhuǎn)對(duì)稱的表面進(jìn)行修正 ? 若噴管能做兩維或多維運(yùn)動(dòng)（如利用噴管轉(zhuǎn)動(dòng)或工件的傾斜來改變噴射角），則需要根據(jù)儀器的改進(jìn)結(jié)果，具體從理論及實(shí)驗(yàn)上研究快速收斂面形誤差的方法 應(yīng)用型研究 二、修正面形的能力 75 （二）、駐留函數(shù)的求解 ? 根據(jù)機(jī)床改進(jìn)的結(jié)果，根據(jù)噴管的運(yùn)動(dòng)方式及路徑，對(duì)駐留函數(shù)開展具體的研究工作。 42 （ 1） SiC (W10)的拋光結(jié)果 （一）、磨料粒子的影響 七、表面粗糙度 圖 表面粗糙度的變化情況 43 P=7bar （ 1） SiC (W10)的拋光結(jié)果 （一）、磨料粒子的影響 圖 拋光前 圖 拋光后 七、表面粗糙度 44 （ 2） SiC ()的拋光結(jié)果 ?結(jié)果分析 利用液體噴射拋光技術(shù)可以改善細(xì)磨后的表面粗糙度，但并不能達(dá)到光學(xué)表面（ Ra小于 12nm） （一）、磨料粒子的影響 圖 拋光后 七、表面粗糙度 45 （ 3） CEROXTM 1650 的拋光效果 初始表面粗糙度Ra= P=7bar 1650TMCE RO X（一）、磨料粒子對(duì)的影響 圖 拋光后 七、表面粗糙度 46 （二）、材料特性的影響 七、表面粗糙度 Material K9 ZK1 ZBaF3 BaF8 F1 ZF1 ZF6 Ra (nm) Initial Final 不同材料所得到的表面粗糙度 47 （二）、材料特性 與顯微硬度（ Hk）的關(guān)系 圖 表面粗糙度與顯微硬度的關(guān)系 七、表面粗糙度 ?對(duì)于軟并脆的火石玻璃(ZF6, ZF1, F1, BaF8, ZBaF3)，所得到的的表面粗糙度隨顯微硬度的增加而減小 ?而對(duì)于較硬的硅酸鹽玻璃（ K9, ZK1）， 情況則相反 ?與固著磨料拋光結(jié)果相反 [9] [9] John C. Lambropoulos, et al， Surface microroughness of optical glasses under deterministic microgrinding, APPLIED OPTICS, Vol. 35, No. 22 ,1 August 1996,44484462 48 （二）、材料特性與表面粗糙度的關(guān)系 （ 2） 與楊氏模量（ E）和顯微硬度 (Hk)的關(guān)系 ~kESRH2()ckKH圖 表面粗糙度與材料特性的關(guān)系 七、表面粗糙度 49 （三）、工作壓力與表面粗糙度 ?結(jié)果 近似線性關(guān)系，但大壓力（ 6~11bar）對(duì)表面粗糙度的增加量比小壓力（ 2~5bar）的效果大 圖 七、表面粗糙度 50 （四）、噴射角與表面粗糙度 噴射角 0176。該方法可以達(dá)到收斂面形誤差的目的。 圖 噴射角為 60186。 圖 噴射角為 30186。 ?得到的材料去除量 Zi+1與 Zi之間的差值將作為新的駐留函數(shù)， 直至面形誤差滿足要求為止 34 （三）實(shí)驗(yàn) 四、駐留函數(shù)的求解 35 四、駐留函數(shù)的求解 （四）結(jié)果 36 繼續(xù)研究的方面 ? 該方法直接將面形誤差作為駐留函數(shù)，利用離散卷積數(shù)值解法，通過反復(fù)疊代，最終將面形誤差控制在允許范圍內(nèi)。表面粗糙度是引起光散射和光學(xué)表面吸收的主要因素，是評(píng)價(jià)光學(xué)元件成像質(zhì)量的重要指標(biāo) 。 )SR 下表面破壞層 [14] Head, Optical glass fabrication technology, Relationship between surface roughness and subsurface damage, Applied Optics, ,1987(4677~4679) 69 問 題（一） 下表面破壞層在測(cè)量前一般是先將工件表面用酸（ 10%的 HF或者 ‘ Yang’ solution）腐蝕，目的是將由該技術(shù)條件下產(chǎn)生的下表面破壞層去除 （ 1）如何確定下表面破壞層全部去除？ （ 2）腐蝕掉的深度是否為破壞層的深度？ 討 論 70 ? 酸咬去應(yīng)力的實(shí)驗(yàn)中，有時(shí)是通過控制浸泡時(shí)間來決定去除量的大小 ? 如果時(shí)間過短，下表面破壞層并不能完全去除 ? 即使鏡子已經(jīng)浸泡了很長一段時(shí)間（比如 30min），當(dāng)把鏡子繼續(xù)浸泡時(shí)，還是有部分材料去除 ? 用酸咬及通過測(cè)量去除量的深度來確定下表面破壞層的方法有待商榷。 60176。 駐留函數(shù)的求解 37 五、去除函數(shù)的優(yōu)化 38 (一 )、多點(diǎn)垂直作用 圖 垂直作用四次 圖 五、去除函數(shù)的優(yōu)化 39 圖 傾斜（ 45186。 45176。1 研究進(jìn)展及方向 報(bào) 告 人：方 慧 指導(dǎo)教師：余景池 郭培基 2022. 12. 15 液體噴射拋光技術(shù) 2 報(bào)告內(nèi)容 一、研究背景 二、已開展的工作 三、準(zhǔn)備開展的工作 四、想法及問題討論 3 一 、研究背景 高精度光學(xué)元件的應(yīng)用 [1] Olive , Hedser van Brug. “Fluid jet polishing of optical surfaces” , APPLID
教學(xué)課件相關(guān)推薦
鄂ICP備17016276號(hào)-1