【正文】 E ）。A．要有共同就位道B．兩端的固體位固位力要求基本相等C．固位體固位力應(yīng)與 力大小相適應(yīng)D．共同就位道應(yīng)與牙長軸平行E．固位體固位力應(yīng)與橋體跨度相適應(yīng)選擇可摘局部義齒基牙的原則中錯誤的是（E ）。左上前牙牙齦輕度紅腫，易出血，可見菌斑及牙石。余牙未見異常。A．隙卡B．對半卡環(huán)C．圈形卡環(huán)D．回力卡環(huán)E．三臂卡環(huán)上頜牙列中牙周膜面積最大的是（ C ）。A． 力由牙周組織承擔(dān)B．咀嚼效率高C．舒適D．穩(wěn)固E．磨除牙體組織少缺隙兩端各有一基牙，一側(cè)為可動連接體、一側(cè)為不動連接體的固定橋稱為（C ）。A．B．C．D．E．選擇成品托盤的標(biāo)準(zhǔn)中錯誤的是（ E）。A．側(cè)向力小B．有利于義齒的穩(wěn)定C．容易達(dá)到平衡合D．對牙槽嵴損害小E．咀嚼效率低全口義齒摘戴時疼痛，定位明確，戴入后無明顯不適。最可能的原因是（ B）。A．腭小凹B．前顫動線C．后顫動線D．翼上頜切跡E．磨牙后墊切牙乳突的作用是（ A ）。A．切牙乳突位于上頜腭中縫的前端B．切牙乳突與上頜中切牙之間有較穩(wěn)定的關(guān)系C．切牙乳突下方為切牙孔，排牙時要防止此處壓迫D．切牙乳突的位置變化較小E．兩個上中切牙的交界線應(yīng)以切牙乳突為準(zhǔn)上頜義齒后堤區(qū)位于（ D）。A．唇頰溝加深B．上頜結(jié)節(jié)修整C．牙槽骨修整D．唇系帶修整E．頰系帶修整造成牙槽骨吸收速度快的原因不是（ C ）。A．塑料牙質(zhì)輕，咀嚼效能高B．瓷牙耐磨，但咀嚼效能低C．瓷牙和塑料基托結(jié)合好，但易崩裂D．塑料牙調(diào)合方便E．塑料牙不易變色基托組織面需局部緩沖的是（E ）。A．切緣B．切1/3C．切1/2D．切2/3E．齦緣一患者戴用全口義齒一周，主訴咬合疼痛，定位不明確。檢查發(fā)現(xiàn)：舊義齒人工牙磨耗嚴(yán)重，垂直距離低，基托不密合，下頜前庭粘膜反折處及牙槽嵴舌側(cè)粘膜處小潰瘍。A．就位困難B．下頜偏向一側(cè)C．發(fā)音不清D．粘膜壓痛E．基托邊緣過長患者戴用全口義齒一周后，自訴義齒松動，易脫落。A．盡量擴(kuò)大基托面積B．準(zhǔn)確的印模C．有利的磨光面形態(tài)D．合理的排牙E．指導(dǎo)患者正確使用義齒一戴用全口義齒的患者，主訴經(jīng)常咬舌，無其它不適。C．33176。A．正中 位B．息止頜位C．息止 間隙D．頜間距離E．垂直距離義齒初戴時出現(xiàn)疼痛的原因不包括（ B）。A．基托組織面與粘膜的密合程度B．唾液的質(zhì)和量C．是否用軟襯材料D．是否戴過舊義齒E．基托的厚度一患者全口義齒戴牙一周后，感覺尚好，僅在上頜腭中縫處有輕度壓痛。C．磨低左上后牙頰尖D．磨低左下后牙頰尖E．磨低右下后牙頰尖人工牙排列要有平衡 的主要原因是（ C）。E．0176。A．切牙乳突B．顴突區(qū)C．腭中縫D．顫動線E．上頜隆突無牙頜的印模方法中錯誤的是（A ）。A．中部蓋過腭小凹后2mmB．低于唇頰粘膜皺襞2mmC．高于唇頰粘膜皺襞2mmD．A＋BE．A＋C內(nèi)容總結(jié)
（1），建立的時候一針一線，小心而漫長，拆除的時候只要輕輕一拉
（2）蜜蜂在花叢中忙碌，那是在教我們勤勞
（3）檢查發(fā)現(xiàn)：舊義齒人工牙磨耗嚴(yán)重，垂直距離低，基托不密合，下頜前庭粘膜反折處及牙槽嵴舌側(cè)粘膜處小潰瘍
（4）B．調(diào)磨左上后牙頰尖頰斜面
。原因可能為（　C）A．患者身體不適B．人工牙為塑料牙C．垂直距離過低D．關(guān)節(jié)功能紊亂E． 關(guān)系有誤下頜后部牙槽嵴骨吸收的方向為（B ）。C．33176。A．調(diào)磨左上后牙頰面。A．降低唇郟系帶附著點B．增大垂直距離C．增加頜間距離D．減小頜間距離E．加大基托伸展范圍與全口義齒穩(wěn)定無關(guān)的是（ D）。其原因是（ B）。A．45176。A．2mmB．4mmC．6mmD．8mmE．10mm以下排牙措施中正確的是（ D ）。A．基托邊緣過度伸展B．基托邊緣過短C．咬合不平衡D．基托組織面不密合或邊緣封閉差E．上頜隆突形成支點一戴用全口義齒患者，在做側(cè)方咬合時，平衡側(cè)義齒基托翹動、脫落，其最可能的原因是（ B ）。A．＜B．1~C．2~3mmD．4~5mmE．6~10mm雙側(cè)上頜結(jié)節(jié)明顯突向頰側(cè)，倒凹大者，全口義齒修復(fù)時要（D ）。A．換大號上前牙B．換小號上前牙C．抬高上前牙齦緣位置D．抬高上前牙E．不必修改上下牙列不接觸，下頜處于安靜狀態(tài)時的位置稱為（ B ）。A．人工牙排列偏唇頰側(cè)B．頜位關(guān)系錯誤C．垂直距離過高D．基托邊緣過度伸展E．牙槽嵴吸收試戴時，可采用如下方法判斷垂直距離是否正確，除了（ A ）。A．中切牙向唇側(cè)，側(cè)切牙、尖牙向腭側(cè)B．中切牙、側(cè)切牙向唇側(cè)，尖牙向腭側(cè)C．中切牙、側(cè)切牙向腭側(cè)，尖牙向唇側(cè)D．中切牙向腭側(cè)，側(cè)切牙、尖牙向唇側(cè)E．中切牙、側(cè)切牙和尖牙均向腭側(cè)某無牙頜患者，上下頜弓位置關(guān)系正常，牙槽嵴豐滿，上頜相當(dāng)于3牙槽嵴唇側(cè)尖銳骨尖。A．咀嚼時義齒不脫落B．大張口時義齒不脫落C．說話時義高齒不脫落D．抬舌頭時義齒不脫落E．從口內(nèi)取下義齒時有阻力屬于邊緣封閉區(qū)（B ）。A．切緣B．切1/3C．切1/2D．切2/3E．齦緣與全口義齒固位無關(guān)的是（E ）。A．牙平面B．磨光面C．咬合面D．組織面E．吸附面義齒初戴時，給患者的醫(yī)囑中錯誤的是（D ）。A．重襯B．自凝塑料加高咬合C．囑患者慢慢適應(yīng)D．修改 面形態(tài)E．重新制作全口義齒修復(fù)應(yīng)在拔牙多長時間后進(jìn)行（ D）。A．鞍式橋體B．改良鞍式橋體C．蓋峭式橋體D．衛(wèi)生橋E．球形橋體義齒初戴后出現(xiàn)粘膜壓痛的處理方法是（D ）。A．附加卡環(huán)B．基托C．連接體D．支托E．間接固位體傾斜基牙固定橋取得共同就位道的方法，錯誤的是（ E ）。A．由粘膜和牙槽骨支持B．基托應(yīng)盡量伸展C．固位體最好采用三臂卡環(huán)D．用于缺牙多，基牙健康差者E．咀嚼效能差可減小游離缺失末端基牙扭力的卡環(huán)是（ D）。右上1牙冠1/2缺損，已露髓，探稍敏感，叩診陰性，無松動。右上1缺失，間隙正常，牙槽嵴無明顯吸收。A．牙冠解剖外形最突點的連線，不隨觀測方向改變而改變B．牙冠解剖外形最突點的連線，隨觀測方向改變而改變C．牙冠軸面最突點的連線，不隨觀測方向改變而改變D．牙冠軸面最突點的連線，隨觀測方向改變而改變E．組織表面最突點面出的連線，不隨觀測方向改變而改變應(yīng)用舌桿時下頜前牙舌側(cè)齦緣到舌系帶附著的距離（口底深度）不應(yīng)小于（ C ）。余牙未見異常。A．1mmB．2~4mmC．5~6mmD．7~8mmE．9~10mm衡量一個牙是否為良好基牙的最重要的指標(biāo)是（C ）。A．頜關(guān)系錯誤B．人工牙變位C．上下頜基托遠(yuǎn)端有早接觸D．后牙區(qū)咬合高E．患者不會用義齒咬合下頜基托一般應(yīng)蓋過磨牙后墊的（C）。A．咬合接觸最好在瓷面上B．連接體偏舌側(cè)C．金瓷銜接處避開咬合功能區(qū)D．盡量增加連接體 齦厚度E．鎳鉻合金強(qiáng)度較好固定橋粘固后短時間內(nèi)出現(xiàn)咬合時疼痛，最可能的原因是（ C ）。如果第二雙尖牙牙根較短，支持力不足，最佳的固定橋設(shè)計是（ B）。A．與齦接觸B．離開1～3mmC．離開4～6mmD．離開6～10mmE．離開11～15mm缺牙間隙的近遠(yuǎn)中距及 齦距短的情況下，人工牙不宜選用（ B）。A．遠(yuǎn)中 支托，導(dǎo)平面，Ⅰ桿B．遠(yuǎn)中 支托，鄰面板，Ⅰ桿C．近中 支托，鄰面板，Ⅰ桿D．近中 支托，導(dǎo)平面，Ⅰ桿E．近中 支托，導(dǎo)平面，圓形卡臂可摘局部義齒上不起穩(wěn)定作用的部分是（E ）。A．2～4個B．5～6個C．7～8個D．盡可能少E．盡可能多衛(wèi)生橋橋體齦面與牙槽嵴粘膜之間的間隙至少為（ E ）。A．增加至原來的2倍B．增加至原來的4倍 RC．增加至原來的6倍D．增加至原來的8倍E．增加至原來的9倍患者右下6缺失三個月，要求固定修復(fù)。右上1設(shè)計樁核比設(shè)計普通樁冠的優(yōu)點，除了（D ）。A． 支托不就位B．卡環(huán)臂過緊C．卡環(huán)體進(jìn)入基牙倒凹D．基托進(jìn)入倒凹E．未按就位方向戴入下頜牙列中牙周膜面積最小的是（ A ）。最可能的原因是（ A）。A．近缺隙側(cè)倒凹區(qū)小，遠(yuǎn)離缺隙側(cè)倒凹區(qū)大B．近缺隙側(cè)倒凹區(qū)小，遠(yuǎn)離缺隙側(cè)倒凹區(qū)也小C．近缺隙側(cè)倒凹區(qū)大，遠(yuǎn)離缺隙側(cè)倒凹區(qū)小D．近缺隙側(cè)倒凹區(qū)大，遠(yuǎn)離缺隙側(cè)倒凹區(qū)也大E．近缺隙側(cè)與遠(yuǎn)離缺隙側(cè)均無倒凹區(qū)患者右下6缺失三個月，要求固定修復(fù)。左上前牙牙齦輕度紅腫，易出血，可見菌斑及牙石。A．牙周膜B．牙槽骨C．根長D．根形態(tài)E．對側(cè)牙的情況RPI卡環(huán)采用近中合支托的主要目的是（B ）。A．高熔合金B(yǎng)．中熔合金C．低熔合金D．鍛制合金E．焊合金藻酸鹽印模材料中藻酸鉀的作用是（ C ）。A．高熔合金B(yǎng)．中熔合金C．低熔合金D．鍛制合金E．焊合金瓊脂印模材由溶膠變?yōu)槟z的溫度是（ C ）。A．一次印模B．二次印模的初印模C．二次印模的終印模D．個別托盤的邊緣整塑E．以上均可人造石與普通石膏比較，其特點為（ B ）。A．濕砂期B．粥樣期C．膠粘期D．面團(tuán)期E．橡皮期義齒基托折斷修理時最常采用（ A ）。A．900℃B．1000℃C．1100℃D．1200℃E．1300℃臨床上在灌注石膏模型后多久可利用模型制作修復(fù)體（D ）。，建立的時候一針一線，小心而漫長，拆除的時候只要輕輕一拉。A．自凝塑料B．熱凝塑料 RC．磷酸鋅粘固劑D．玻璃離