【正文】 ion Manufacturing) 計(jì)算機(jī)整合制造（指以計(jì)算機(jī)系統(tǒng)整合制造流程） Cleanliness 潔凈度 Comp. Completion的縮寫(xiě) ,意指完成 Contamination 污染 Defect 缺陷 DGS ： Data Gate Short 數(shù)據(jù)線柵線短路 Distortion 扭曲度，衡量光線從 Mask到達(dá) Plate后產(chǎn)生的扭曲程度 Dust 灰塵 Emergency 緊急 Empty 空的 ESD (Electrostatic Discharge) 靜電釋放 ,靜電擊穿 Etching Rate 蝕刻速率 (=蝕刻厚度 /時(shí)間 ) Exit 出口 Company Confidential BOE OT Copyright ? 2023 Technology Management Dept. 工程名詞 用語(yǔ) 用語(yǔ)說(shuō)明 備注 Focus 聚焦，衡量成像清晰程度 FPD:Focal Plane Deviation 焦點(diǎn)水平偏離 FQA:Flatness Quality Area 平面平整性區(qū)域 Glass Fiber 玻璃纖維，摻雜與 Seal 膠中，維持膠高，保證盒厚 HMDS Hexamethyldisilazane的簡(jiǎn)寫(xiě)，為一種化學(xué)中間體，用以增加光阻涂布時(shí)對(duì)芯片表面之附著力 Humidity 濕度 I/O (Input / Output) 輸入 /輸出 ID (Identity) 識(shí)別碼 (如 Lot ID or Chip ID) Instruction 命令 ,指令 Interbay 作業(yè)區(qū)和作業(yè)區(qū)之間 Intrabay 作業(yè)區(qū)之內(nèi) IRIF (InfraRed InterFace) 紅外線界面 Jig Press Jig 壓合 Laminar flow 層流（流體力學(xué)名詞） LCD (Liquid Crystal Display) 液晶顯示器 Lot 指生產(chǎn)在線的在制品或產(chǎn)品 ,簡(jiǎn)稱(chēng)「貨」 Note 批注 Operation 作業(yè) ,操作 Overlay 重合精度，衡量 Gate層外的其他各層與 Gate層重合的程度 Particle 微粒子 Particle Counter 灰塵顆粒檢測(cè)機(jī) Company Confidential BOE OT Copyright ? 2023 Technology Management Dept. 工程名詞 用語(yǔ) 用語(yǔ)說(shuō)明 備注 PE (Plasma Etch) 電漿蝕刻機(jī) PinHole 針點(diǎn)小凹陷 Pixel 像素 *注 . Polarizer Lamination 偏光片貼合 Precaution 預(yù)防措施 Pressure 壓力 Process 制程 Production 生產(chǎn) Prohibit 禁止 PS (Photo Spacer) 功能與普通的 Spacer相同 , 一般用于大尺寸產(chǎn)品 , 且可得到較好的 cell gap Purge 用 CF或 NF系列的氣體通入 CVD清除器壁累積的硅 PVX ： Passivation 鈍化層 Quality 品質(zhì) Radical 活性粒子 Recipe 程序 ,制程參數(shù) Release 將 hold住的貨放行 ,釋出 Report 報(bào)告 Reset 重新設(shè)定 Retrieve 【 計(jì)算機(jī) 】 檢索 ,擷取 (數(shù)據(jù) ) RF Generator 射頻發(fā)生器。 Aperture Ratio 開(kāi)口率，即每個(gè)像素可以透光的有效區(qū)域除以像素的總面積，開(kāi)口率越高，整體畫(huà)面越亮。 Color filter一般是由遮光用的 Black matrix、 color顯示用的著色 pattern、保護(hù)著色 pattern的透明保護(hù)膜、以及驅(qū)動(dòng)液晶用的透明電極膜等 4種要素所構(gòu)成。線寬通常為數(shù) um到 10um不等。 Hsync： Horizontal synchronization 水平方向同步信號(hào) 技術(shù)名詞 Company Confidential BOE OT Copyright ? 2023 Technology Management Dept. 用語(yǔ) 用語(yǔ)說(shuō)明 備注 HTN (High Twisted Nematic) 高扭曲向列的顯示類(lèi)型 Laser Anneal 雷射回火 , 低溫多晶硅與非晶硅最大差異在于， LTPS 的薄膜晶體管 TFT，經(jīng)過(guò)雷射回火 (Laser anneal)的制程步驟；利用雷射作為熱源，雷射光經(jīng)過(guò)投射系統(tǒng)后，會(huì)產(chǎn)生能量均勻分布的光束，投射于非晶硅結(jié)構(gòu)的玻璃基板上，當(dāng)非晶硅結(jié)構(gòu)玻璃基板吸收雷射的能量后，會(huì)轉(zhuǎn)變成為多晶硅結(jié)構(gòu) LSB: Least Significant Bit 最低有效位 Luminance 明亮度指一對(duì)象之可見(jiàn)亮度。 Prebonding 透過(guò) ACF將 TCP以高精度定位于 LCD面板上，然后利用 ACF的半硬化性，以低溫?zé)釅褐M(jìn)行預(yù)先接合之工程，假壓著制程導(dǎo)入有助于高分辨率模塊量產(chǎn)設(shè)計(jì)。利用電場(chǎng)的有無(wú)將液晶分子控制在 STN構(gòu)造與垂直配向之間，即可用雙折射性的變調(diào)加以驅(qū)動(dòng)。 TTL： TransisterTransisterLogic 晶體管 晶體管邏輯電路 Uniformity 畫(huà)面的均勻度，即 Panel分為數(shù)等份，分別測(cè)量其中心點(diǎn)的亮度，所測(cè)得的最小值除以最大值即是此 Panel均勻度，均勻度越高表示 Panel畫(huà)面越穩(wěn)定。對(duì) LCD來(lái)說(shuō)，指Monitor/Notebook 企業(yè)生產(chǎn)過(guò)程中發(fā)生的 LCD不良 E/S Engineering Sample. 為確保開(kāi)發(fā)產(chǎn)品的質(zhì)量目標(biāo)符合的性能及信賴(lài)性制造的樣品 ,在此階段完成產(chǎn)品開(kāi)發(fā) ECN (Engineering Change Notice) 通報(bào)設(shè)計(jì)變更事項(xiàng) ,或通報(bào)設(shè)計(jì)相關(guān)文件修改時(shí)用的文件 ,屬于技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)文件 Epidemic Failure 指因同樣的原因或各種原因引起的一定數(shù)量以上同樣不良的現(xiàn)象 [(例 )異常點(diǎn)燈 ]， 對(duì) Epidemic 的規(guī)定一般指發(fā)生 1%以上不良的情況，通常與顧客簽定質(zhì)量合同時(shí)協(xié)商決定 EQP 以出廠檢查的產(chǎn)品檢查結(jié)果進(jìn)行推斷的生產(chǎn)工藝產(chǎn)品的質(zhì)量現(xiàn)狀。 將 Line Patrol 時(shí)發(fā)現(xiàn)的違反基準(zhǔn)的事項(xiàng)，詳細(xì)記錄后發(fā)放 給當(dāng)事人，并為了管理措施等而使用的文件。 :21:5115:21Apr231Apr23 ? 1故人江海別，幾度隔山川。 , April 1, 2023 ? 很多事情努力了未必有結(jié)果，但是不努力卻什么改變也沒(méi)有。 2023年 4月 1日星期六 3時(shí) 21分 51秒 15:21:511 April 2023 ? 1空山新雨后，天氣晚來(lái)秋。 2023年 4月 1日星期六 下午 3時(shí) 21分 51秒 15:21: ? 1最具挑戰(zhàn)性的挑戰(zhàn)莫過(guò)于提升自我。勝人者有力，自勝者強(qiáng)。 。 2023年 4月 1日星期六 3時(shí) 21分 51秒 15:21:511 April 2023 ? 1做前，能夠環(huán)視四周；做時(shí)，你只能或者最好沿著以腳為起點(diǎn)的射線向前。 , April 1, 2023 ? 雨中黃葉樹(shù)，燈下白頭人。 LRR (Lot Reject Ratio) 在規(guī)定的時(shí)間內(nèi)對(duì)檢查不合格的 LOT比率。 Company Confidential BOE OT Copyright ? 2023 Technology Management Dept. 不良名詞 Company Confidential BOE OT Copyright ? 2023 Technology Management Dept. 不良名詞 Company Confidential BOE OT Copyright ? 2023 Technology Management Dept. 不良名詞 Company Confidential BOE OT Copyright ? 2023 Technology Management Dept. 不良名詞 Company Confidential BOE OT Copyright ? 2023 Technology Management Dept. 不良名詞 Company Confidential BOE OT Copyright ? 2023 Technology Management Dept. 不良名詞 Company Confidential BOE OT Copyright ? 2023 Technology Management Dept. 不良名詞 Company Confidential BOE OT Copyright ? 2023 Technology Management Dept. 不良名詞 Company Confidential BOE OT Copyright ? 2023 Technology Management Dept. 不良名詞 Company Confidential BOE OT Copyright ? 2023 Technology Management Dept. 不良名詞 Company Confidential BOE OT Copyright ? 2023 Technology Management Dept. 不良名詞 Company Confidential BOE OT Copyright ? 2023 Technology Management Dept. 不良名詞 Company Confidential BOE OT Copyright ? 2023 Technology Management Dept. 不良名詞 Company Confidential BOE OT Copyright ? 2023 Technology Management Dept. 不良名詞 Company Confidential BOE OT Copyright ? 2023 Technology Management Dept. 不良名詞 Company Confidential BOE OT Copyright ? 2023 Technology Management Dept. 不良名詞 Company Confidential BOE OT Copyright ? 2023 Technology Management Dept. 不良名詞 Company Confidential BOE OT Copyright ? 2023 Technology Management Dept. QA專(zhuān)用名詞 用語(yǔ) 用語(yǔ)說(shuō)明 備注 AQL 進(jìn)行檢查時(shí) ,檢查 LOT的允許的質(zhì)量限制范圍 BOM（ Bill Of Material） 表現(xiàn)構(gòu)成產(chǎn)品的材料與材料間、材料與裝配件間等相互關(guān)系的目錄，指開(kāi)發(fā)及生產(chǎn) /制造活動(dòng)的 Master data Brightness LCD Module 畫(huà)面的亮度 CAR (Corrective Action Request) 消除對(duì)不合理事項(xiàng)及其他不合理狀況的原因采取措施。切換畫(huà)面即可翻頁(yè)，可作對(duì)話型操作。 S/R： Shift Register 移位寄存器 SSGC： Spread Spectrum Generate Clock 展頻產(chǎn)生信號(hào) STN (Super Twisted Nematic) 超扭曲向列的顯示類(lèi)型 ,具有扭轉(zhuǎn)約 180度 ~270度構(gòu)造的 nematic液晶或采用 namatic液晶的顯示類(lèi)型。 MSB:Most Significant Bit 最高有效位 ODC： Overdrive Control 過(guò)驅(qū)動(dòng)控制 OE： Output enable 輸出使能信號(hào) PAL (Phase Alternating Line) 逐行倒相制式 PDN： P