吸波體性能分析(2)(存儲版)
【正文】 等多種因素有關，本題將反射率簡化為滿足余弦法則，即，其中為入射角大小，其中為垂直入射反射率。上圖所示暗室右端中心的的小方塊面積處是安置導引頭的部位，稱為“靜區(qū)”。首先我們在垂直于軸的切面里討論。我們讓令=，把第二個反射點當作第一個反射點，回到第一步。同時，由于靜區(qū)面積相對于墻面非常小，為了簡化問題，我們假設靜區(qū)為一個點。對于該問題的優(yōu)化方面，對于本問題我們?yōu)榱朔治龇奖?，在此就利用長方體極其截面進行研究，而根據(jù)分析，如果利用多面體進行操作的時候將會是入射角會更大，進而使會更小，更能精確，但是在實際計算的過程中，多面體不便于計算，所以我們最后選擇了長方體進行分析。所以，三維下得結論，同二維時的結論。得出結論：這條射線的反射次數(shù)為次反射角度由k大小決定： 當時，反射線方向偏向y軸正向，當時，反射線方向偏向y軸正向，當時，反射線方向為z軸正向。2．問題1的求解（尖劈吸波體吸波示意圖） 設尖劈形狀吸波體及其坐標系如上圖所示，尖劈的長度沿方向為無限長，其他尺寸記號同圖2。在上述條件下，要求建立入射波線在一個尖劈幾何空缺間反射過程的數(shù)學模型，分別刻畫最終反射波線的方向，反射次數(shù)，反射波的輻射強度與已知反射率、諸幾何參數(shù)之間的定量關系。采用這些形狀的主要理由是它們能使得輻射波在尖形的幾何空缺間形成多次反射和透射反射，降低反射出去的能量，實現(xiàn)高效率吸波。最后再解決三維情況。對于問題一我們利用光反射原理，先通過計算二維情況，從任意一條光線出發(fā)，得到其的反射路徑，從而得到該光線的反射方向，反射次數(shù)，反射光線的輻射強度與該尖劈的高度和角度的關系，并且發(fā)現(xiàn)反射角度由k大小決定：，從而得到反射波輻射強度為。三、符號說明反射率入射角入射波功率方位角射向
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