【正文】 % % %，在某時(shí)間對(duì)某物體透照時(shí)的最佳曝光時(shí)間為40分鐘，經(jīng)過(guò)5個(gè)月后，用該源對(duì)同一物體透照時(shí)，為得到同樣黑度的射線底片，應(yīng)選用的曝光時(shí)間為（c）： ，曝光時(shí)間為10分鐘，焦距為600毫米，若將焦距變?yōu)?00毫米，為得到同樣黑度的底片，其曝光時(shí)間應(yīng)為（b）： （c） ，若出廠時(shí)為100Ci，則該源在經(jīng)過(guò)10個(gè)月減到約為多少Ci？（d） ，射線照相時(shí)射源至底片距離50cm，現(xiàn)射源衰退至20Ci，要以同樣的照相時(shí)間的到同樣的結(jié)果，則射源至底片的距離應(yīng)為多少？（b） ,如射源至底片距離25英寸,則曝光時(shí)間應(yīng)為（c） ，需要80居里分鐘的曝光量才能得到黑度適當(dāng)?shù)挠跋?，但?shí)際照像現(xiàn)場(chǎng)限制射源至底片的距離為300mm，射源現(xiàn)有強(qiáng)度20居里，則實(shí)際照射時(shí)間為多少？（b） ,如射源至底片距離為20英寸,則曝光時(shí)間應(yīng)為(c) （b）： ，一般采用哪種γ射線源？（a） ？（b）： ，伽瑪射源的選擇應(yīng)選擇（a） 、橫坐標(biāo)量的這條曲線稱為（d） 、橫坐標(biāo)量的這條曲線稱為（d） （b）的曝光量最為合適： 、工件厚度為橫坐標(biāo)，曲線為管電壓，但必須固定其他哪些透照參數(shù)？（h） （c） ，一定要在一組給定的固定參數(shù)條件下制作，它們包括焦距、膠片型號(hào)、規(guī)定密度、暗室處理?xiàng)l件、X射線機(jī)型號(hào)以及增感屏型號(hào)等，而其基本參數(shù)只能是哪些變量？（d） ，一定要在一組給定的固定參數(shù)條件下制作，它們包括焦距、膠片型號(hào)、規(guī)定密度、暗室處理?xiàng)l件、X射線機(jī)型號(hào)以及增感屏型號(hào)等，而其基本參數(shù)只能是哪些變量？（d） ，如選用250KVP時(shí)，則從右圖的曝光曲線查得曝光量為多少？（b）t =P/t =t/P （式中：D人體接受的總劑量；P人體上所受到的射線劑量率；t解除射線時(shí)間）（b）、輻射源種類、屏蔽 、距離、屏蔽、距離、輻射量 、距離、射源種類？（a）=(mt/60)1/2 b.(60m/t)1/2 c.(60t/m)1/2 d.(60/mt)1/2 （式中：R離射源的距離(m)；t照射時(shí)間(h)；m射源強(qiáng)度（毫克鐳當(dāng)量））（吸收系數(shù)）。L) =lgL0+L（式中：L0透過(guò)底片前的光強(qiáng)度；L透過(guò)底片后的光強(qiáng)度），若底片密度為2時(shí)，只有多少數(shù)量的入射光線被透過(guò)？（a），入射光通量約為透射光通量的（b）倍： ，則底片黑度為（b）： ，（c）（b） （b） △Dmin與（f）因素有關(guān) （a） ，在射線照相法中，如圖所示，主要是利用曲線中的哪一段？（b） ？（e） ，而管電壓不變，則射線束的穿透力有沒有變化？（c） ，在管電壓低于（b）千伏時(shí)是不會(huì)產(chǎn)生特征X射線的： ，X射線的轉(zhuǎn)換效率約為（c）% ，則連續(xù)譜X射線的變化是（b），最短波長(zhǎng)增長(zhǎng) ，最短波長(zhǎng)不變，最短波長(zhǎng)減小 （d） X射線是指（c） ； 的“白色”X射線束 （d） （b），穿透力較強(qiáng)的X射線 ，穿透力較強(qiáng)的X射線，穿透力較差的X射線 ，穿透力較差的X射線（c） ，則穿透力（a）： ，則其（c），能量增高 ，能量減小 ，能量增高 ，能量減小，對(duì)物件的穿透力是由（c）決定的： ，因此X光的效應(yīng)優(yōu)劣與陽(yáng)極靶的什么有關(guān)？（c） ，因此其產(chǎn)生的X射線為（d） ，與所施加的電壓無(wú)關(guān)，其波長(zhǎng)與所施加的電壓成反比（a）： ？（b） (b)： （b）而發(fā)生核反應(yīng)制成的 （d）射線 （b） （c），1MeV ， ， ，（=）？（c） （=）經(jīng)過(guò)一個(gè)半衰期后將衰減為多少Ci？（c） （=）經(jīng)過(guò)2個(gè)半衰期后將衰減為多少Ci？（b） ？（b） ，它捕獲了什么粒子后變成60Co？（d） ？（c） （b）： ,今有20居里射源，若無(wú)屏蔽，則在10米外的照射率為（c）（a）： （a） （b）： ，它是輻射源濃縮程度的物理量。；(c): (d) ，下列敘述中正確的是（b），X射線光譜也是連續(xù)的，而X射線光譜是連續(xù)的，X射線光譜也是不連續(xù)的，而X射線光譜是不連續(xù)的（d），伽瑪射線波長(zhǎng)較長(zhǎng) ，伽瑪射線波長(zhǎng)較短 ，在某些部分兩者的波長(zhǎng)會(huì)有重疊，下列哪一種曝光方法是正確的？（b） （吸收），以下哪種材料為最大？（d）： （吸收），以下哪種材料為最大？（d）： （a）并放出電子： （d）： （a）數(shù)目表示的 （a）有關(guān) （b）相互作用： （b）： ，主要是和（a）發(fā)生作用 （e） （g） （a） （b） （e） （c）： ，也可能帶負(fù)電，由于什么原因增加了底片密度？（d），有助于膠片的曝光 ，不使底片產(chǎn)生灰霧 ，在射線照相時(shí)采用熒光增感屏，這是因?yàn)樗谏渚€激發(fā)下產(chǎn)生（a） ，在射線照相時(shí)采用熒光增感屏，這是因?yàn)樗谏渚€激發(fā)下產(chǎn)生（d） ，鉛箔被射線激發(fā)出什么粒子使膠片加速感光？（c） ，鉛箔被射線激發(fā)出什么粒子使膠片加速感光？（c） ，從而達(dá)到增感的目的，這稱之為（c） ，會(huì)產(chǎn)生什么情況？（c） （d） ，下面哪種敘述是正確的？（b），與焦點(diǎn)大小成反比，與焦點(diǎn)大小成正比，與射源至物體的距離成正比（c）時(shí)能夠產(chǎn)生自由電子，能夠引起固有的不清晰度 ，其數(shù)學(xué)表達(dá)式是（a）=lg(L0/L) =lg(L/L0) =lg(L0θ/2)（式中:D透照?qǐng)鲋睆?；F焦距），最主要的是決定于（d） （d）的、顯示細(xì)節(jié)的能力 （a）的、顯示細(xì)節(jié)的能力 （b）的 （b） ，下面敘述中正確的是（c），影像放大得越大，影像放大得越大，影像放大得越大（b），因此影像輪廓會(huì)（d） 防護(hù)，如果采用鉛防護(hù)，會(huì)發(fā)生其他有害因素，故一般可選用（d）來(lái)代替 （b） 、γ射線防護(hù)材料的是（e） （rem）？（b）： （mrem）？（b） （d）=18(N5) =18(5N) =5(18N) =5(N18) （式中：D一生中之總劑量；N工作人員之年齡），工作人員之全身，生殖腺或紅骨髓在一年內(nèi)所接受之最高許可劑量為（c） ，這樣的劑量（c）： ，照胸部X光，如果每次的輻射劑量是50mR，這樣的劑量（a） ，工作人員一次緊急照射劑量不得超過(guò)一年劑量限度的（a） ？（a） （a）=P1R12/R22 =P2R12/R22 =P1R22/R12 （式中：P1距放射源R1處的劑量率；P2距放射源R2處的劑量率）（a）：=P2℃，如果不使用停影液，膠片應(yīng)（c） ，定影前在活水中至少?zèng)_洗2分鐘，在水洗后若將底片浸到潤(rùn)濕劑（wetting agent）中，其目的是為了要（c） （b）：℃ ℃ ℃ ℃？（b） ，然后再取出干燥 （c）a. 70℃ b. 90℃ c. 50℃ （d）： （c）、顯影液、水 、定影液、水 、定影液、水 、水、停止液？（d）： ，顯影液溫度越高，則顯影時(shí)間越（a）： ，熱空氣溫度不宜超過(guò)50℃，其原因主要是防止（d） ，一般而言，水溫最好保持在（a） ℃ ℃以下 ℃以上，定影液與沖洗用水的水溫若相差超過(guò)15186。夾角時(shí) 176。，要得到21T的品質(zhì)，則該透度計(jì)厚度為（b） ，像質(zhì)計(jì)的厚度應(yīng)選擇多少？（b） （a）=(d/T)100% b.(T/d)100% % (d為鋼絲直徑，T為被透工件厚度)（c）=(T/X)100% b.(X/T)100% c.[X/(T+A)]100% (X為可發(fā)現(xiàn)的最淺槽深；A是透度計(jì)總厚度；T為被透工件厚度)，或膠片與鉛箔增感屏接觸不良，或者膠片的粒度太大，可能會(huì)引起什么結(jié)果？（b） （d） （d） ，后者指影像的半影？（d） （b）： （c），與焦點(diǎn)尺寸成反比 ，與焦點(diǎn)尺寸成反比；，與焦距成反比 ，與焦距成正比(a)、大焦距透照 、小焦距透照 ？(c) ？（a） ，同一缺陷所在試件位置越靠近底片側(cè)時(shí)，則（d），而其幾何不清晰度變大 ，而其幾何不清晰度變大，而其幾何不清晰度變小 ，而其幾何不清晰度變?。╝）： ？（d） ，用快速膠片代替慢速膠片，但這樣會(huì)帶來(lái)什么后果？（c） （c） ，而與時(shí)間成正比的量 （b） （d） （b）： ，射線照相靈敏度取決于（d） （a） ，在X射線機(jī)一定，即焦點(diǎn)尺寸一定，而且保證射線能量能夠正常穿透的情況下，射線束朝向工件的方向和射線源到膠片的距離應(yīng)（b），距離盡可能短 ，距離盡可能大，距離盡可能短 ，距離盡可能大、高清晰度的X射線底片，一般應(yīng)采用（b）、近距離 、較長(zhǎng)的焦距 、低管電流 、高管電流？（a），應(yīng)使焦距盡可能短 ，應(yīng)使焦距盡可能長(zhǎng)，則焦距應(yīng)盡可能地短 ，焦距應(yīng)盡可能短？（a），應(yīng)使焦距盡可能長(zhǎng)，應(yīng)使焦距盡可能長(zhǎng)，應(yīng)使焦距盡可能短，焦距應(yīng)盡可能短，一般射源至膠片的距離與射源的有效直徑是一定的，此時(shí)應(yīng)取工件哪一部位至膠片的距離才能正確表示最不利部位的幾何不清晰度？（a） ，還需要考慮（d）： ，對(duì)鋼和銅進(jìn)行射線照相，若以12mm厚的銅板進(jìn)行射線照相時(shí)的曝光條件，對(duì)鋼進(jìn)行射線照相，則此鋼板的厚度應(yīng)該是多少？（c） ，對(duì)鋼和銅進(jìn)行射線照相，若以28mm厚的鋼板進(jìn)行射線照相時(shí)的曝光條件，對(duì)銅進(jìn)行射線照相，則此銅板的厚度應(yīng)該是多少？（a） ，為了同時(shí)得到不同厚薄處具有相同密度的底片，一般可采取什么方法？（c） ，兩次攝影所獲得的結(jié)果有什么差異？（b），襯度高，曝光范圍比50KV時(shí)大，襯度低，曝光范圍比40KV時(shí)大，襯度較低，曝光范圍比50KV時(shí)大，襯度高，曝光范圍比40KV時(shí)大，如果要增加射線強(qiáng)度，應(yīng)該（c）： ，在X射線照相中確定透照電壓時(shí)必須遵守的規(guī)定是（d） （c） ，確定透照次數(shù)與（d）相關(guān)、工件外徑、工件壁厚 、透照厚度比、射線源與工件表面距離、透照厚度比、工件外徑、射線源與工件表面距離、工件壁厚/工件外徑、工件外徑/射線源與工件表面距離，下列方法中透照次數(shù)最多的是（a） ，下列方法中應(yīng)優(yōu)先選用的是（c） （橢圓成像）時(shí)射線源偏移距離的因素是（d） （a） （a） ，焦距越大，有效透照區(qū)（b） ，有效透照長(zhǎng)度相關(guān)于（d） （c） ，在可能的情況下，最好采?。╞）的透照方法 ，源在外的雙壁透照，有效透照長(zhǎng)度與焦距的關(guān)系是（a），有效透照長(zhǎng)度越小 ，有效透照長(zhǎng)度越大，源在外的雙壁透照，有效透照長(zhǎng)度與焦距的關(guān)系是（c），有效透照長(zhǎng)度越小 ，源在外的單壁透照，有效透照長(zhǎng)度與焦距的關(guān)系是（b），有效透照長(zhǎng)度越小 ，有效透照長(zhǎng)度越大（e） （b） ，除了可以按不同厚度分別透照外，如果厚度變化范圍在適當(dāng)范圍內(nèi)，也可以進(jìn)行一次透照，經(jīng)常采用的方法是（d） （d） ，必須綜合考慮（a）對(duì)影像質(zhì)量的影響、焦距、曝光量 、管電流、曝光時(shí)間、管電流、焦距 、曝光時(shí)間、焦距，現(xiàn)用此能量的X射線透照厚度70mm的鈦餅坯，應(yīng)用相當(dāng)于多厚的鋼的曝光量？（c）： （300KV，6mA）的穿透能力可達(dá)到69mmFe，則要透照90mm厚的鈦合金餅坯，該X射線機(jī)能否勝任？（a） ，不宜使用 %以上工作，是為了延長(zhǎng)（d）的工作壽命 ，對(duì)同一物體作相同條件之曝光（mA、KV、曝光時(shí)間等均相同），則（d） 、品質(zhì)不同的輻射線、相同品質(zhì)的輻射線 %射線照像檢測(cè)時(shí)（a），至少相隔90176。 ，每次相隔120186。θ/2) （式中:D透照?qǐng)鲋睆?；F焦距），照射區(qū)域的選擇應(yīng)掌握什么原則？（a）% （c） ，當(dāng)選用焦距500毫米，管電流5毫安時(shí)，能得到曝光適宜的底片，如果為了提高影像清晰度，要把焦距增加到1米，則在此新的焦距條件下，需要多大的管電流才能得到同樣的曝光量？（a） ,，曝光時(shí)間應(yīng)從原來(lái)的10分鐘改成多少分鐘？（b）： min （b）的 （a）的顯示： （b） ，能檢出最小缺陷的能力稱為（b） （b） （d），例如陽(yáng)光或輻射熱 ？（d）、膠片儲(chǔ)藏時(shí)間過(guò)久或超過(guò)有效期較長(zhǎng) ，顯影液濃度過(guò)高、顯影液溫度過(guò)高，曝光過(guò)度，受散射線影響 ？（c） ，膠片邊緣未經(jīng)直接曝光而出現(xiàn)密度較高的區(qū)域，這是由于什么原因引起的？（d） ，發(fā)現(xiàn)底片上存