【摘要】半導體硅片的化學清洗技術一.硅片的化學清洗工藝原理 硅片經過不同工序加工后,其表面已受到嚴重沾污,一般講硅片表面沾污大致可分在三類:A.有機雜質沾污:可通過有機試劑的溶解作用,結合超聲波清洗技術來去除。B.顆粒沾污:運用物理的方法可采機械擦洗或超聲波清洗技術來去除粒徑≥μm顆粒,利用兆聲波可去除≥μm顆粒。C.金屬離子沾污:必須采用化學的方法才能清
2025-08-05 20:49
【摘要】湖南省火電建設公司作業(yè)指導書編制單位湖南火電太鋼自備電廠工程項目部工程名稱太鋼自備電廠2×300MW機組工程單位工程鍋爐本體安裝項目編碼Q/501--2007版次項目名稱:省煤器出口煙道組合吊裝方案編寫日期審核日期會簽工程部
2025-05-10 13:59
【摘要】單位代碼:FNPC-FTXMB-GLGS編號:GC-009-010/2020施工方案施工項目:#1鍋爐化學清洗施工方案編制單位:東電四公司遼陽芳烴基地熱電廠項目部
2025-10-15 19:49
【摘要】方案I設備、工藝管道開車前的化學清洗方案根據業(yè)主和EPC(信息產業(yè)電子第十一設計研究院)技術交底的要求:合成、精餾提純、還原整理、尾氣回收、氯硅烷儲存及外管等(部分)工藝管道和設備,在安裝前后必須保證一定的潔凈度要求,循環(huán)水系統必須進行清洗預膜。本方案的編制還參照了我們以往在亞洲硅業(yè)(青海)1200噸/年、黃河水電新能源公司(青海)1500噸/年
2025-10-09 10:50
【摘要】......外墻清洗方案編制:審核:四川省住業(yè)建設有限公司天悅灣一期項目部
2025-05-04 22:14
【摘要】專業(yè)資料分享目錄第一節(jié)工程概況 2第二節(jié)編制依據 2第三節(jié)外墻清洗前的準備 2第四節(jié)清洗步驟及方法………..………………………………4第五節(jié)進度管理…………………………..…………………4第六節(jié)質量管理………………………………………………5第
2025-04-25 01:05
【摘要】SCCCNCEC1250噸/年多晶硅(擴建)項目CVD還原安裝工程設備管道清洗方案GB50319-2000管道設備清洗方案報審表工程名稱:1250噸/年電子級多晶硅生產線(擴建)項目CVD還原區(qū)安裝工程編號:20661-SB-A06-PI(B22)-01
2025-05-31 22:40
【摘要】XXXXXX大廈/小區(qū)外墻清洗服務方案服務項目名稱真實性地體現服務項目整體效果圖服務單位:XXXXX地球天使保潔有限公司單位地址:XXXXX市策劃時間:XXXX年XX月XX日
2025-05-14 18:08
【摘要】外墻清洗方案-6-提倡科學節(jié)能減排,創(chuàng)綠色環(huán)保新模式目錄一、公司簡介………………………………………………………2二、外墻清洗的方式………………………………………………2三、外墻清洗的條件………………………………………………3四、安全操作規(guī)程…………………………………………………3五、清洗設備、工具材料
2025-05-10 01:06
【摘要】天津100萬噸/年乙烯及配套項目乙烯工程100萬噸/年乙烯裝置潤滑油管線化學清洗施工技術方案(
2025-05-08 23:52
【摘要】1目錄一、工程概況41、工程概述2、項目名稱3、工程建設的必要性二、設計依據、原則及設計范
2025-02-27 11:21
【摘要】捷/新/清/洗中國石化集團南化公司連云港堿廠空氣壓縮機水冷卻系統化學清洗保養(yǎng)工程實施方案編制:王玉蘭審核:孟祥奎確認:王達友日期:日期:日期:鹽城市捷新清洗保潔有限公司中國石化集團南化公司連云港堿廠空氣壓縮機水冷卻系統化學清洗保養(yǎng)一、本方案編制依據:(1)
2025-04-26 04:14
【摘要】神華陽光電廠擴建工程2×135MW鍋爐化學清洗技術方案批準:審核:校核:編寫:
2025-10-09 09:03
【摘要】鍋爐清洗除垢方案鍋爐是工業(yè)生產中最基本的設備之一,按其使用壓力分為低壓鍋爐、中壓鍋爐、高壓鍋爐;按工作介質的循環(huán)方式分為自然循環(huán)、強制循環(huán)和直流鍋爐。貴廠的鍋爐是縱置式鏈條鍋爐,結構是煙管三回程受熱。鍋爐軟化水設備是一套美國富萊克5000型的控制器,其特點是在設備再生時還是有硬水和鹽水通過進入鍋爐。長期以來貴單位一直在這樣使用。另外在鍋爐的水位計中可以
2025-10-10 12:28
【摘要】貴溪市LNG氣站預冷方案貴溪LNG氣化站工藝預冷投產方案編制:審核:批準:中國第四冶冶金建設有限公司2011年5月目錄第一部分總則第二部分準備工作第三部分工作要點
2025-08-05 01:08