【正文】 2023年 3月 11日星期六 上午 3時(shí) 53分 46秒 03:53: ? 1最具挑戰(zhàn)性的挑戰(zhàn)莫過于提升自我。 2023年 3月 11日星期六 3時(shí) 53分 46秒 03:53:4611 March 2023 ? 1空山新雨后，天氣晚來秋。 , March 11, 2023 ? 很多事情努力了未必有結(jié)果，但是不努力卻什么改變也沒有。 :53:4603:53Mar2311Mar23 ? 1故人江海別，幾度隔山川。 浮法拋光 ? ★ 浮法拋光 將磨料（ SiO2 和 Al2O3）用去離子水混合，拋光時(shí)，有數(shù)倍于磨料顆粒尺寸的液體層保持在拋光模（錫模）和工件之間（工件浮起），進(jìn)行高速拋光。 水中拋光 ? ★ 水中拋光 水中拋光又稱 BFP法拋光，它是將工件和拋光模都浸在水中，在低速低壓下進(jìn)行拋光。然后再根據(jù)圓球制造凹凸樣板。 這種方法可加工很薄的平面零件；能加工出不平行度 θ ＝ 1″ ～ ″ 的平面零件。這種裝夾方式要求工件光膠面的光圈必須很好。 精磨的要求 固著磨料拋光對(duì)精磨工藝要求很嚴(yán)格， 對(duì)光圈、光圈的一致性、表面光潔度 和拋光模要求相匹配。 工藝因素對(duì)準(zhǔn)球心高速拋光的影響 拋光速度和壓力 在高速拋光中，速度和壓力的影響與古典拋光相似，在工藝條件允許下，拋光效率與速度和壓力成線性關(guān)系。 耐磨性好 為了保證拋光模的尺寸精度和面形精度，拋光模有較好的耐磨性。 常見疵病及產(chǎn)生原因（ 2） 疵病類型 原因 麻點(diǎn) 拋光時(shí)間不夠；精磨時(shí)間不充分；零件走動(dòng)；精磨面形誤差太大，尤其時(shí)偏高，易形成邊緣拋光不充分。拋光粉顆粒的硬度至少要與玻璃的硬度相匹配。 拋光模材料和拋光模基體的影響 ? 拋光模材料和拋光?；w的影響 拋光模材料直接影響拋光精度。因此，改高光圈時(shí)宜輕，而改低光圈時(shí)宜重。 （ 4）拋光模與零件表面接觸不良也會(huì)引起光圈變形。 局部偏差的度量（ 2） ? 中心及邊緣均有局部誤差 當(dāng)中心及邊緣均有局部誤差時(shí)， Δ 2N取最大局部誤差。 b)較小曲率半徑球面零件 對(duì)于較小曲率半徑球面零件，當(dāng) N＜ 1時(shí)，一般是根據(jù)（光斑大?。╊伾珌砉浪愕?。 N≥ 1的光圈數(shù) 光圈的度量 當(dāng)光圈數(shù) N＜ 1時(shí) ， 光圈數(shù)用條紋弦高 h與對(duì)應(yīng)的相鄰兩條紋間距 H之比 。 光圈的度量 ? 光學(xué)零件的面形偏差是用光圈數(shù)表示的。 局部偏差的判斷 局部誤差包括局部低和局部高，塌邊和翹邊等，這種光圈的識(shí)別用一側(cè)加壓法判斷。 局部偏差 如果用光學(xué)樣板檢驗(yàn)時(shí)局部出現(xiàn)不規(guī)則光圈，有凸包或凹陷，說明被檢光學(xué)表面有局部偏差。如，點(diǎn)頭時(shí)，光圈由內(nèi)向外擴(kuò)散，則為高光圈；反之，光圈由外向內(nèi)收縮，此時(shí)則為低光圈。低光圈干涉條紋彎曲方向與上相反，它是背向受力點(diǎn)。這樣與對(duì)應(yīng)的干涉條紋也隨之移動(dòng)。值不僅取決光圈數(shù) N、零件與樣板的接觸口徑 D（在此口徑范圍內(nèi)顯示于涉環(huán)）干涉光的波長，還取決于樣板是沿邊緣接觸（低光圈），還是在中部接觸（高光圈）。光學(xué)零件的面型精度包括 曲率半徑偏差 、 像散偏差 和 局部偏差 三個(gè)內(nèi)容。實(shí)驗(yàn)根據(jù)是 玻璃表面分子的流動(dòng)而掩蓋了劃痕 拋去玻璃的重量與拋去玻璃的厚度不對(duì)應(yīng) 軟化點(diǎn)高的玻璃，拋光效率低 化學(xué)作用 ? ★ 化學(xué)作用 拋光過程是水、拋光劑、拋光模和玻璃之間化學(xué)作用的結(jié)果。其目的：一是去除精磨的破壞層，達(dá)到規(guī)定的表面質(zhì)量要求，二是精修面形，達(dá)到圖紙要求的光圈和局部光圈，最后形成透明規(guī)則的表面。 機(jī)械磨削 ? ★ 機(jī)械磨削 拋光與研磨的本質(zhì)是相同的，都是堅(jiān)硬的磨料對(duì)玻璃表面進(jìn)行微小切削作用的結(jié)果。這些圓環(huán)稱作光圈，又叫牛頓環(huán)。則總的光圈數(shù) N與空氣總厚度 之間的關(guān)系為： ? 光圈，即干涉條紋的形狀是由空氣隙等厚層的軌跡決定的，即同一級(jí)干涉條紋對(duì)應(yīng)的空氣隙厚度是相等的。 2 ( 2 1 )22 50 / 2 2hkkhm????? ? ? ?? ? ? ? ?m? 二、光圈的識(shí)別與度量 低光圈 : 用樣板檢驗(yàn)工件時(shí)，如果兩者在邊緣接觸，當(dāng)空氣隙縮小時(shí)，條紋從邊緣向中間移動(dòng)，則稱低光圈 高光圈 :用樣板檢驗(yàn)工件時(shí)，如果兩者在中間接觸，當(dāng)空氣隙縮小時(shí)，條紋從中心向邊緣移動(dòng)，則稱高光圈 。如果工件為理想平面，用平面樣板（平晶）檢驗(yàn)零件時(shí)，則呈現(xiàn)平直條紋，由于浮起程度不同，條紋數(shù)目也隨之增減 ? 如果工件為高光圈 ，見圖：設(shè)樣板面為 A、 B、 C、 D，加工面為 E、 F、 G、 H。 ? 高光圈：從中心到邊緣的顏色序列為“黃、紅、藍(lán)”等。i ?39。 像散偏差的判斷 ? 像散偏差的判斷 有像散存在就是光學(xué)表面的曲率半徑不一樣。 局部偏差的判斷 當(dāng)一側(cè)加壓時(shí)： 中心低 條紋中心部位的彎曲凹向背著加壓點(diǎn) A 中心高 條紋巾心部位的彎曲凹向朝著加壓點(diǎn) A 圖 一側(cè)加壓法判斷中心低 圖 一側(cè)加壓法判斷中心高 （ a）低光圈中心低； (b)高光圈中心低 （ a）低光圈中心高； (b)高光圈中心高。 ? 如果要求允許的最大象散光圈和局部光圈數(shù)相同時(shí)，可用同時(shí)表示兩者的偏差。彩色條紋數(shù)目就是光圈 N。像散偏差有以下幾種形式 橢圓形 像 散光圈數(shù) 馬鞍形 像 散光圈數(shù) 柱形 像 散光圈數(shù) N＜ 1的像散光圈數(shù) 馬 鞍 光 圈 柱形光圈 局部偏差的度量（ 1） ? 局部偏差的度量 局部偏差光圈數(shù) Δ 2N是以局部不規(guī)則干涉條紋對(duì)理想平滑干涉條紋的偏離量 e與兩相鄰條紋間距的比。 影響光圈的因素 （ 1）原材料本身熱處理不當(dāng)，在零件制造過程中，由于應(yīng)力的變化引起光圈的變形。 （ 3）壓力的影響，在古典法拋光中，從法向分力的角度考慮，高光圈應(yīng)加重，低光圈應(yīng)減輕。從微觀結(jié)構(gòu)上看，零件表面的微觀不平度也影響拋光效率。 拋光劑的影響 ? 拋光劑的影響 拋光粉的硬度 拋光粉的結(jié)晶結(jié)構(gòu)影響拋光效率。 溫度對(duì)粘結(jié)膠的影響 溫度升高，粘結(jié)膠變軟，工件容易脫膠。 微孔結(jié)構(gòu) 拋光模能吸附儲(chǔ)存大量的拋光粉顆粒，而且使拋光粉顆粒在微孔內(nèi)自由滾動(dòng)，有利于機(jī)械作用的發(fā)揮。 工藝因素對(duì)準(zhǔn)球心高速拋光的影響 準(zhǔn)球心問題 如果擺臂不對(duì)準(zhǔn)球心，會(huì)引起壓力不均勻，光圈難控制，因此應(yīng)盡量使上模的軸線對(duì)準(zhǔn)工件（下模）球心。拋光片是由結(jié)合劑和拋光粉兩部分組成，常用的結(jié)合劑是合成高分子材料，制成不同形狀和尺寸的小圓片。 敲擊下盤 適用于石膏盤，彈性上盤，浮膠、光膠等。但 當(dāng)工件尺寸很大時(shí)，分離器尺 寸會(huì)相應(yīng)增大很多，制造就較 為困難。球面樣板是測(cè)量工具 ,按用途分為工作樣板 和 標(biāo)準(zhǔn)樣板 兩種。 現(xiàn)代光學(xué)技術(shù)對(duì)光學(xué)零件的表面的要求越來越高，其主要是由于 高能量激光器的發(fā)展和應(yīng)用，要求諧振