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【正文】 納 米 科 技 第二節(jié) 電子光學(xué)表面分析方法 在納米測量中的應(yīng)用 五、原子探針場離子顯微鏡 工作原理和樣品制備 針尖樣品表面上的一個原子對應(yīng)著熒光屏上的一個亮點 。 納 米 科 技 第二節(jié) 電子光學(xué)表面分析方法 在納米測量中的應(yīng)用 五、原子探針場離子顯微鏡 工作原理和樣品制備 “場蒸發(fā) ” 后針尖就變成沒有突出部分的 、 平滑的半球形 ，成為場離子顯微鏡合用的 樣品 ， 場蒸發(fā)還可以剝離表面層 ， 使樣品形成無污染的新鮮表面 。 納 米 科 技 第二節(jié) 電子光學(xué)表面分析方法 在納米測量中的應(yīng)用 四、俄歇電子譜儀 測試原理 檢測俄歇電子的能量和強度，可以獲得有關(guān)表面層化學(xué)成分的定性和定量信息。 納 米 科 技 第二節(jié) 電子光學(xué)表面分析方法 在納米測量中的應(yīng)用 三、電子顯微鏡和電子探針 X射線顯微分析儀是目前比較理想的微區(qū)化學(xué)成分分析手段。 納 米 科 技 第二節(jié) 電子光學(xué)表面分析方法 在納米測量中的應(yīng)用 二、低能電子衍射（ LEED） 初級電子由電子槍及電子聚焦裝置 ， 入射到樣品表面 ， 經(jīng)散射后可由法拉第圓筒直接測量衍射電子束強度或讓它打到熒光屏上 ， 使熒光屏發(fā)光 ， 然后再用光度計或攝像管測量光強 。 一、概述 基本原理 納 米 科 技 第二節(jié) 電子光學(xué)表面分析方法 在納米測量中的應(yīng)用 電子光學(xué)表面分析方法可對表面（及表面區(qū)域）進行化學(xué)成份、元素分布、化學(xué)吸附的分析； 可對該區(qū)進行顯微組織分析； 可進行表面區(qū)電子結(jié)構(gòu)（包括表面能級、能帶、空間電荷等）的分析。 一、概述 特點 原因： 只有當真空度達到 107Pa以下，每秒種有 1010個氣體分子同 1cm2的固體表面碰撞，覆蓋一層新的原子層需要 8個小時，所述的測試才有可能進行。 納 米 科 技 第二節(jié) 電子光學(xué)表面分析方法 在納米測量中的應(yīng)用 三、電子顯微鏡和電子探針 利用透射電鏡（ TEM）和掃描電鏡（ SEM）對納米粉體粒度的觀測，上節(jié)已闡述，這里重點介紹加裝在掃描電子顯微鏡上的電子探針、 X射
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