材料分析測(cè)試技術(shù)-部分課后答案-預(yù)覽頁(yè)
【正文】 像是指在物鏡背焦平面上沿徑向插入一個(gè)小孔徑的物鏡光闌，擋住散射角大于α的電子，只允許散射角小于α的電子通過(guò)物鏡光闌參與成像，而圖像的襯度就取決于透過(guò)物鏡光闌投影到熒光屏或照相底片上不同區(qū)域的電子強(qiáng)度差別。 11限制復(fù)型樣品的分辨率的主要因素是什么 答限制復(fù)型樣品的分辨率的主要因素是復(fù)型材料粒子尺寸。P157115萃取復(fù)型可用來(lái)分析哪些組織結(jié)構(gòu)得到什么信息？ 第二相粒子的形狀、大小、分布、物相及晶體結(jié)構(gòu)。 ③因?yàn)殡娮硬úㄩL(zhǎng)短，可以認(rèn)為電子衍射產(chǎn)生的衍射斑點(diǎn)大致分布在一個(gè)二維倒易截面內(nèi)。③倒易矢量的長(zhǎng)度等于正點(diǎn)陣中相應(yīng)晶面間距的倒數(shù)，即④對(duì)正交點(diǎn)陣，有,⑤只有在立方點(diǎn)陣中，晶面法向和同指數(shù)的晶向是重合（平行）的。以O(shè)為中心，為半徑作一個(gè)球，入射波矢量為。12何為零層倒易截面和晶帶定理？說(shuō)明同一晶帶中各種晶面及其倒易矢量與晶帶軸之間的關(guān)系。晶帶定理：因?yàn)榱銓拥挂酌嫔系母鞯挂资噶慷己途лS垂直，故有，即。12為何對(duì)稱入射（B//[uvw]）時(shí)，即只有倒易點(diǎn)陣原點(diǎn)在愛(ài)瓦爾德球球面上，也能得到除中心斑點(diǎn)以外的一系列衍射斑點(diǎn)？由于實(shí)際的樣品晶體都有確定的形狀和有限的尺寸，因而它們的倒易陣點(diǎn)不是一個(gè)幾何意義上的點(diǎn)，而是沿著晶體尺寸較小的方向發(fā)生擴(kuò)展，擴(kuò)展量為該方向上實(shí)際尺寸倒數(shù)的2倍。多晶取向完全混亂，可看作是一個(gè)單晶體圍繞一點(diǎn)在三維空間內(nèi)旋轉(zhuǎn)，故其倒易點(diǎn)是以倒易原點(diǎn)為圓心，（hkl）晶面間距的倒數(shù)為半徑的倒易球，與反射球相截為一個(gè)圓。倒易原點(diǎn)附近的球面可近似看作是一個(gè)平面，故與反射球相截的是而為倒易平面，在這平面上的倒易點(diǎn)陣都坐落在反射球面上，相應(yīng)的晶面都滿足Bragg方程，因此，單電子的衍射譜是而為倒易點(diǎn)陣的投影，也就是某一特征平行四邊形平移的花樣。131制備薄膜樣品的基本要求是什么？具體工藝如何？雙噴減薄與離子減薄各適用于制備什么樣品？樣品的組織結(jié)構(gòu)必須和大塊樣品相同，在制備過(guò)程中，這些組織結(jié)構(gòu)不發(fā)生變化；樣品相對(duì)于電子束而言必須有足夠的透明度，因?yàn)橹挥袠悠纺鼙浑娮邮高^(guò)，才能進(jìn)行觀察和分析；薄膜樣品有一定的強(qiáng)度和剛度，在制備，夾持和操作過(guò)程中，在一定的機(jī)械力作用下不會(huì)引起變形和損壞；在樣品制備過(guò)程中不允許表面產(chǎn)生氧化和腐蝕。區(qū)別：①質(zhì)厚襯度是非晶態(tài)復(fù)型樣品的成像原理，而衍射襯度是晶體薄膜樣品的成像原理②質(zhì)厚襯度是由于樣品不同微區(qū)間存在的原子序數(shù)或厚度的差異而形成的，而衍射襯度利用的是樣品中晶體位向的不同而造成襯度差別而形成的。此時(shí)只有B晶粒的衍射束正好通過(guò)光闌孔，而透射束被擋掉，如圖b）所示，這叫做中心暗場(chǎng)像。3)吸收電子:其襯度恰好和SE或BE信號(hào)調(diào)制圖像襯度相反。它適合做表面分析。 不同：二次電子像主要反映試樣表面的形貌特征，像的襯度是形貌襯度，主要決定于試樣表面相對(duì)于入射電子束的傾角，試樣表面光滑平整，傾斜放置的二次電子發(fā)射電流比水平放置時(shí)大，一般選在45度左右，用二次電子信號(hào)作形貌分析時(shí)，可在檢測(cè)器收集柵上加一250~500V的正電壓來(lái)吸引能量較低的二次電子，使它們以弧形路線進(jìn)入檢測(cè)器，這樣在樣品表面某些背向檢測(cè)器或凹坑等部位上逸出的二次電子也能對(duì)成像有所貢獻(xiàn)，圖像層次增加，細(xì)節(jié)清楚。入射電子束進(jìn)入淺層表面時(shí)，尚未向橫向擴(kuò)展開(kāi)來(lái)，因此二次電子和俄歇電子的分辨率就相當(dāng)于束斑的直徑。？電子探針儀如何與掃描電鏡和透射電鏡配合進(jìn)行組織結(jié)構(gòu)和微區(qū)化學(xué)成分的同位分析？電子探針的鏡筒及樣品室和掃描電鏡沒(méi)有本質(zhì)上的差別但在檢測(cè)器部分使用的額是X射線譜儀專門(mén)用來(lái)測(cè)定特征波長(zhǎng)WDS或特征能量EDS以此來(lái)對(duì)委屈化學(xué)成分進(jìn)行分析。 2）在同一時(shí)間對(duì)分析點(diǎn)內(nèi)所有元素X射線光子的能量進(jìn)行測(cè)定和計(jì)數(shù)，在幾分鐘內(nèi)可得到定性分析結(jié)果，而波譜儀只能逐個(gè)測(cè)量每種元素特征波長(zhǎng)。156．舉例說(shuō)明電子探針的三種工作方式(點(diǎn)、線、面)在顯微成分分析中的應(yīng)用。(3). 面分析： 電子束在樣品表面作光柵掃描，將譜儀（波、能）固定在所要測(cè)量的某一元素特征X射線信號(hào)（波長(zhǎng)或能量）的位置，此時(shí)，在熒光屏上得到該元素的面分布
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