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正文內(nèi)容

電路板污水標(biāo)準(zhǔn)-預(yù)覽頁(yè)

 

【正文】 劑成本分析。結(jié)果顯示在低劑量下以一次加藥為最佳操作模式,而高劑量下以分批加藥為最佳操作模式。在文獻(xiàn)中得知(羅,1994)(1)若在強(qiáng)酸性條件下將H2O2加入含有機(jī)物及Fe2+廢水溶液中,F(xiàn)enton試劑結(jié)合過(guò)渡金屬和過(guò)氧化氫反應(yīng)產(chǎn)生過(guò)氧羥自由基(.HOO)及羥自由基(.HO),則將產(chǎn)生復(fù)雜的氧化還原反應(yīng)。Fenton處理之應(yīng)用范圍非常多,如張氏(3)以反應(yīng)時(shí)間操作方式對(duì)Fenton微過(guò)濾系統(tǒng)處理丙烯溶液效率之影響中發(fā)現(xiàn),不論pH=3或pH=4時(shí),均可降低水樣中的丙烯脂濃度。本研究針對(duì)實(shí)廠PCB電路版酸性廢水,利用瓶杯試驗(yàn)尋求于Fenton法中最適之pH、H2O2/Fe2+加劑量與藥劑成本分析,提供廠商場(chǎng)內(nèi)改善及未來(lái)增設(shè)新單元考量之依據(jù)。pH(COD):密閉回流滴定法(NIEA )。方案A:同時(shí)快混30 min沉淀30 min。方案E:先H2O2濃度100mg/l一次加入,F(xiàn)e2+濃度200方案G:分三個(gè)時(shí)段逐步加入H2O2及Fe2+ (每間隔10 、Fe2+ mg/l)快混2 min后,持續(xù)慢混。尋求最適劑量比之實(shí)驗(yàn),固定條件為pH=2,H2O2為5000 /綜合以上結(jié)果得知,本研究H2O2=100 mg/l,F(xiàn)e2+=200 mg/l時(shí),為Fenton法處理本廠廢水PCB最佳劑量比。二、七種方案之COD去除率之比較由上述實(shí)驗(yàn)得知之最適劑量H2O2/Fe2+為100 mg/l / 200 mg/l,控制pH=2進(jìn)行操作條件之改變,方案A、B、C及D為同時(shí)加入H2O2與Fe2+,其方案A、B、C及D反應(yīng)時(shí)間各為快混30 min沉淀30 min、快混60 min沉淀30 min、快混90 min,探討不同操作對(duì)COD去除率之影響,由圖6發(fā)現(xiàn)到方案A、B、C只有快混而沒有慢混情形下,COD去除率效果,都在60~62%,而方案D發(fā)現(xiàn)到COD去除率為57%,其方案A、B、C及D之COD去除效果相差無(wú)幾,但考量廠區(qū)操作成本,快混所需動(dòng)力較慢混為高,因此選擇方案D為最適操作模式。圖6 / Fe2+藥劑量、E為H2O2全加,F(xiàn)e2+每隔10 min三次加入、F為Fe2+全加,H2O2每隔10min分三次加入、G為H2O2 /再由上述低劑量(H2O2/Fe2+為100 mg/l / 200mg/l)之最適添加條件進(jìn)行COD殘余濃度趨勢(shì)之探討,經(jīng)由每隔5 min採(cǎi)樣過(guò)濾及分析,結(jié)果得知0~5 min反應(yīng)速率為最快,在5 min之內(nèi)達(dá)到32%去除效果,后隨之持續(xù)而平 趨勢(shì),如圖9所示。 高濃度H2O2/Fe2+劑量不同添加方式對(duì)COD去除率影響圖9三、處理系統(tǒng)運(yùn)轉(zhuǎn)操作費(fèi)用本研究以Fenton法處理PCB電路版未處理高濃度酸性廢水,配合廠內(nèi)擴(kuò)建或改善及廠方經(jīng)濟(jì)成本需求考量,設(shè)計(jì)一Fenton程序之反應(yīng)槽體積規(guī)格及藥品費(fèi)與各加藥量成本,如表表3及表4所示,表2為槽體積之設(shè)計(jì)(2243. 以方案E、F、G及方案D來(lái)比較,全部一次加入H2O2/Fe2+劑量比分批加入H2O2/Fe2+劑量可以省去全程操作程序。5. 就整體COD反應(yīng)時(shí)間0~5 min反應(yīng)速率最快,5 min內(nèi)達(dá)32%去除效果。 3. Chang, C. Y., Chen, S. H., Chang, J. S. and Wang, C. C.,作者:張家源 張清安 陳名震 林陳彥
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