【正文】 以它也會影響空化作用的效率。 光伏材料加工與應(yīng)用技術(shù)畢業(yè)論文 13 ：一般來說，超聲波在 30℃ 40℃時(shí)的空化效果最好。被清洗件為精密部件或裝配件時(shí)，超聲清洗往往成為能滿足其特殊 技術(shù) 要求的唯一的清洗方式； 快速：超聲清洗相對常規(guī)清洗方法在工件除塵除垢方面要 快得多。 電極燒結(jié)：太陽電池片目前采用只需一次燒結(jié)的共燒工藝原理，同時(shí)形成上下電極的歐姆接觸（歐姆接觸：金屬與半導(dǎo)體的接觸，接觸面的電阻值小于半導(dǎo)體電阻值）銀漿、銀鋁漿、鋁漿印刷過的硅片，經(jīng)過烘干使有機(jī)溶劑完全揮發(fā)，膜厚收縮成為固狀物緊密黏附在硅片上，這時(shí)可以看到金屬電極材料層和硅片接觸在一起。除去這層磷硅玻璃主要是用氫氟酸來腐蝕，因?yàn)闅浞峋哂腥芙舛趸璧奶匦浴５涮攸c(diǎn)是各向同性，存在側(cè)向腐蝕而產(chǎn)生底切現(xiàn)象，導(dǎo)致線寬失真等問題，所以目前不用。固體中擴(kuò)散微觀基質(zhì)即擴(kuò)散基質(zhì)可以概括為 3種 ：填隙原子機(jī)制、空位機(jī)制、交換機(jī)制。 圖 22 太陽電池工作原理圖 太陽電池的簡介 光伏材料加工與應(yīng)用技術(shù)畢業(yè)論文 10 圖 23 太陽電池制作工序 制作絨面：在太陽能電池中，其能量的損失有兩種類型，光學(xué)損失、電學(xué)損失，其中光學(xué)損失主要的以下幾種： 1硅表面上的反射損失，拋光后的硅片反射率在 30%發(fā)上； 2 上電極的遮光損失，作為上 電極的金屬柵線要遮蓋 5%15%的入射光； 3進(jìn)入硅片能量大于禁帶寬度的光子在家電池背面的投身。它們分別在 P區(qū)的 N區(qū)形成濃度梯度，開始向 PN結(jié)作擴(kuò)散運(yùn)動。該材料以空穴為多數(shù)載流子，稱為 P型半導(dǎo)體。該材料以電子為多數(shù)載流子， 稱之為 N型半導(dǎo)體。當(dāng)向硅中摻入億分之一的硼，其電阻率就會降為原來的千分之一。 光伏材料加工與應(yīng)用技術(shù)畢業(yè)論文 8 第二章 太陽電池基礎(chǔ)及其制作工藝 太陽電池 基本構(gòu)造和工作原理 太陽電池的基本構(gòu)造 （ a ） ( b ) ( c ) a. 太陽電池正面俯視 圖 其中 : 1 太陽電池主柵線 2 太陽電池副柵線、 3 太陽電池背電場 4 減反射膜 5 擴(kuò)散層 6 – 其區(qū)層 圖 2— 1 太陽電池的基本結(jié)構(gòu)圖 太陽電池工作原理 太陽電池是利用半導(dǎo)體光生伏打效應(yīng)（ Photovoltaic Effect）的半導(dǎo)體器件。 本論文所研究的主要內(nèi)容 本論文主要從實(shí)用、商品化太陽電池的生產(chǎn)與工藝研究出發(fā)， 對太陽電池生產(chǎn)制絨的研究及技術(shù)改進(jìn)進(jìn)行了全方位的描述。提高太陽電池的轉(zhuǎn)換效率的方法，有在太陽電池中減少能量的損失。而且鋁箔底襯柔軟結(jié)實(shí)，可以像布帛一樣隨意折疊且經(jīng)久耐用，掛在向陽處便可發(fā)電，非常方便。降低費(fèi)用的關(guān)鍵在于太陽電池提高變換效率和降低成本。據(jù)日本有關(guān)部門估計(jì)日本 2100 萬戶個(gè)人住宅中如果有 80％裝上太陽能發(fā)電設(shè)備，便可滿足全國總電力需要的 14％，如果工廠及辦公樓等單位用房也進(jìn)行太陽能發(fā)電，則太陽能發(fā)電將占全國電力的 30％－ 40％。現(xiàn)在美國、日本等發(fā)達(dá)國家都已制定了相應(yīng)法律，保證進(jìn)行太陽能發(fā)電的家庭利益，鼓勵家庭進(jìn)行太陽能發(fā)電。但由于它太貴，目前只能限于在衛(wèi)星上使用。非晶態(tài)硅太陽電池變換效率最低，但價(jià)格最便宜，今后最有希望用于一般發(fā)電的將是這種電池。但總的說來，瑕不掩瑜，作為新能源，太陽能具有極大優(yōu)點(diǎn)，因此受到世界各國的重視。所以太陽能發(fā)電被譽(yù) 為是理想的能源。 Monocrystalline silicon。m ,等離子刻蝕（ RIE）需要相對復(fù)雜和昂貴的設(shè)備。 畢業(yè)論文 畢業(yè)論文 題 目 太陽電池生產(chǎn)制絨 工藝 研究及技術(shù)改進(jìn) 專 業(yè) 光伏材料加工與應(yīng)用技術(shù) 光伏材料加工與應(yīng)用技術(shù)畢業(yè)論文 2 目錄 摘要 ...............................................................3 ABSTRACT...........................................................4 第一章 緒論 ......................................................5 太陽能應(yīng)用的前景 ..............................................5 本論文所研究的主要內(nèi)容 ........................................6 第二章 太陽電池基礎(chǔ)及制作工藝 .....................................8 太陽電池的基本構(gòu)造和工作原理 ..................................8 太陽電池的簡介 ................................................9 第三章 硅片的清洗與制絨 ..........................................12 ...................................................12 ............................................12 ........................................12 ....................................................13 第四章 單晶 多晶的制絨工藝 ........................................15 ........................................15 ................................................15 ..............................................17 ......................................................20 ................................................21 ..................................................24 結(jié) 論 .............................................................26 參考文獻(xiàn) ..........................................................27 致 謝 .............................................................28 光伏材料加工與應(yīng)用技術(shù)畢業(yè)論文 3 太陽電池生產(chǎn)制絨工藝 研究及技術(shù)改進(jìn) 摘 要 為了提高太陽電池的轉(zhuǎn)換效率，降低表面的光反射，增加晶體硅對光的吸收效率。在這些工藝中，機(jī)械刻槽要求硅片的厚度至少 200181。 關(guān)鍵詞 :表面絨面結(jié)構(gòu)；多晶硅；太陽電池 光伏材料加工與應(yīng)用技術(shù)畢業(yè)論文 4 Milling technology of solar cell production system and technology improvements Abstract In order to improve the conversion efficiency of solar cells, reduce the surface reflection, light absorption increases the efficiency of crystalline silicon. Silicon solar cell production in response to the corrosive treatment, the purpose of access to the surface of the textured structure of silicon, this textured structure to improve light absorption efficiency of crystalline silicon has an important role. For silicon, the alkali solution, anisotropic etching, which may, in its (100) surface to be the ideal flock structure； Currently, there are