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電鍍工藝學(xué)- 電鍍銅合金-全文預(yù)覽

  

【正文】 洗 , 然后浸堿液 。 繼續(xù)提高電流密度 , 接近于 4 A/ dm2時(shí) , 電位又一次發(fā)生突躍 , 在 cd段電位下 , 陽(yáng)極上被 — 層黑色膜所覆蓋 , 合金陽(yáng)極完全鈍化 ,溶解停止 , 大量氧氣析出 , 即 4OH- - 4e = 2H2O+ O2↑ Cu+ ; Sn2+ Cu+ ; Sn4+ 陽(yáng)極出現(xiàn) 黃綠色膜 陽(yáng)極處于 半鈍化 狀態(tài) 陽(yáng)極出現(xiàn) 黑色膜 陽(yáng)極處于 鈍化狀態(tài) 合金陽(yáng)極溶解時(shí) , 可能伴隨有二價(jià)銅離子和二價(jià)錫離子生成 , 都是有害的:二價(jià)錫離子能與氫氧化鈉形成亞錫酸鈉 ,亞錫酸鈉易水解 , 生成亞錫酸沉淀而消耗金屬 Na2SnO2+ 2H2O= 2NaOH+ H2SnO4↓ 二價(jià)錫對(duì)鍍層也有不良影響 , 使鍍層發(fā)灰或發(fā)生毛刺等 ,一般可加入雙氧水將其氧化為四價(jià)錫 。 升高溫度 , 鍍層中錫含量提高 , 降低溫度 , 鍍層錫含量減少 , 電流效率下降 , 鍍層光澤性差 , 陽(yáng)極工作也不正常 。電流密度對(duì)合金成分的影響比較復(fù)雜 , 還沒有得到統(tǒng)一的規(guī)律 。 在陰極上放電的將主要是絡(luò)離子直接放電 , 即 [Sn(OH)6]2- + 4e = Sn+ 6OH- 同理 , 溶液中游離 氫氧化鈉 的增加 , 錫絡(luò)離子的穩(wěn)定性 增加 , 它在陰極放電更困難 , 極化增大 , 鍍層錫含量降低 。當(dāng)溶液中游離氰化鈉含量足夠高時(shí) , [Cu(CN)3]2- 絡(luò)離子可能參加電極反應(yīng) [Cu(CN)3]2- + e = Cu + 3CN- 從而進(jìn)一步提高陰極極化 。 這是因?yàn)楹辖鸪练e的陰極極化增大 , 使沉積電位向負(fù)方向偏移 , 有利于錫的析出 , 因而 , 合金中錫的含量升高 。 0 Cu / Cu 2 V???20 Cu / Cu 4 V?20 Sn / Sn 4? 40 Sn / Sn 05?氰化物電鍍銅錫合金電解液的組成及工藝條件列于表 6- 2- 1 表 6- 2- 1 氰化物電鍍銅錫合金電解液組成及工藝條件 組成 低錫青銅 中錫青銅 高錫青銅 1 2 3 4 5 銅 ( CuCN) 錫 ( Na2SnO3) 游離 NaCN 游離 NaOH 明膠 溫度 陰極電流密度 7- 9 10- 12 7- 8 7- 8 58- 62 25- 30 14- 18 16- 20 6- 9 - 55- 65 10- 14 40- 45 14- 17 20- 25 55- 60 10- 15 30- 45 10- 15 5- 7 60- 70 - 10- 15 45- 60 10- 15 25- 30 60- 65 3- 4 2. 電解液成分和工藝條件對(duì)合金鍍層成分的影響 (1) 放電金屬離子總濃度和濃度比的影響 改變電解液中金屬離子的總濃度 (金屬離子濃度比不變 ),對(duì)合金鍍層成分的影響不大 , 它主要影響陰極的電流效率 。 (4) 無(wú)氰銅錫合金電解液 我國(guó)在 70年代就研究了無(wú)氰電鍍銅錫合金工藝 , 并取得一定的成果 。 (2) 低氰化物 — 焦磷酸鹽電解液 該電解液采用少量氰化物與一價(jià)銅離子絡(luò)合 , 二價(jià)錫離子與焦磷酸鹽絡(luò)合 , 也能得到低錫 、 中錫和高錫的合金鍍層 , 外觀比較光亮 , 其主要缺點(diǎn)是電解液中仍含有劇毒的氰化物 , 合金陽(yáng)極溶解性差 。 (1) 氰化物電鍍銅錫合金 氰化物電鍍銅錫合金應(yīng)用最廣 ,也最成熟 。 高錫青銅的硬度介于鎳和鉻之間 , 同時(shí)還有良好的導(dǎo)電性和釬焊性 。 中錫青銅的硬度 、 抗氧化性和防蝕能力均較低錫青銅為好 。 對(duì)鋼鐵基體而言 ,合金屬于陰極鍍層 。 1 銅錫合金的性質(zhì)利用途 在銅錫合金層中,隨錫含量增加,合金的外觀色澤也發(fā)生變化。 在 50年代由于金屬鎳供應(yīng)短缺 , 曾作為代鎳鍍層得到推廣使用 。電鍍工藝學(xué) Plating technology 第六章 - Ⅱ 電鍍銅合金 Chapter Ⅵ Ⅱ Copper Alloy Plating ?概述 電鍍 銅合金可以提高硬度 、 改變顏色 ( 如作為裝飾性的仿古鍍層 、 仿金鍍層等 ) 以及獲得其他特殊的性能 。 1934年首先提出了含有錫酸鹽 — 氰化物電鍍銅 — 錫合金的專利 。 雖然電鍍合金層比電鍍銅成本高 , 但抗蝕性 、 硬度和沉積速度等方面都比鍍銅好 。低錫青銅硬度較低 , 有良好的拋光性 。 (2) 中錫青銅 合金中含錫量大致在 15— 35% 范圍內(nèi) 。 在空氣中不易失去光澤 ,能耐弱酸 、 弱堿和食物中的有機(jī)酸 。 2 銅錫合金電解液的類型 電鍍銅錫合金電解液可分為氰化物 、 低氰和無(wú)氰三種 。 該工藝的主要缺點(diǎn)是氰化物劇毒 , 不利于環(huán)境保護(hù) 。 該電解液也能獲得滿意的低錫合金鍍層 。 電解液中采用兩種絡(luò)合劑分別絡(luò)合兩種金屬離子 , 以氰化鈉與一價(jià)銅離子絡(luò)合 , 氫氧化鈉與四價(jià)錫絡(luò)合成錫酸鈉 , 兩種絡(luò)合劑互不干擾 , 電解液穩(wěn)定 , 維護(hù)容易 。通常降低電解液中銅與錫的含量比 , 鍍層中銅含量下降 , 而錫含量升高 。 隨著游離氰化鈉含量的提高 , 在溶液中可能生成配位數(shù)更高 、 更加穩(wěn)定的絡(luò)離子 Cu(CN)32- Cu(CN)43- 當(dāng)幾種不同形式的離子在溶液中同時(shí)存在時(shí) , 直接在陰極上放電的將首先是低配位數(shù)和負(fù)電荷較少的絡(luò)離子 。 在電解液中 , 錫以錫酸鈉的形式加入 , 它在堿性溶液中電離 , 并生成具有絡(luò)離子性質(zhì)的水合物 Na2SnO3 = 2Na+ + SnO32- SnO32-
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