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pcb光成像工藝知識-全文預(yù)覽

2025-01-12 17:57 上一頁面

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【正文】 磨刷 材質(zhì):尼龍 。 化學(xué)成份作用*啟始劑吸收 UV光的能量后,先自行分裂產(chǎn)生自由基,自由基引發(fā)光聚反應(yīng),形成交聯(lián)聚合物,不溶于顯影液,而未曝光的光阻膜被顯影液剝?nèi)?,聚合成像部分,保留在銅面上。 b. 曝光前后有明顯顏色變化,便于已曝光 板與未曝光的區(qū)分及目檢。*聚合反應(yīng)主體,單體吸收自由基后進(jìn)行聚合反應(yīng)形成商分小聚合體。 聚乙烯隔膜* 避免卷膜、運(yùn)輸、儲存時,干膜藥膜與保護(hù)膜之間相互粘貼, (厚度25181。光成像工藝知識光成像工藝知識講述內(nèi)容一、干膜知識二、前處理三、貼膜四、曝光五、顯影六、蝕刻七、去膜八、菲林制作九、干膜類型十、工程處理注意事項(xiàng)一、干膜知識* 1968年由杜邦公司研制并用于線路板行業(yè) (非水溶性干膜,溶劑型;顯影用三氯乙烷,退膜用二氯甲烷 )。* A Part: 聚醋蓋膜 (保護(hù)膜 )沖影時撕去 1milPolyester Cover Sheet* B Part: 光阻膜層 Photopdlymer Film Resist* C Part:聚乙烯隔膜、貼膜時撕去 Polyettylenc Separator Sheet 厚度 1mil附圖于下一頁干膜結(jié)構(gòu)干膜結(jié)構(gòu) 附圖聚醋蓋膜 (保護(hù)膜 )聚乙烯隔膜光阻膜層干膜各層作用聚酯保護(hù)膜:1. 保護(hù)作用,防止擦花藥膜,尤其是貼膜到?jīng)_影前的保護(hù) . ,由于曝光后聚合反應(yīng)將繼續(xù)進(jìn)行 ,氧氣進(jìn)入會與自由基發(fā)生反應(yīng)形成非活性的過氧化物,阻止聚合反應(yīng)的進(jìn)行,使聚合過程停止造成曝光聚合不足。m)光阻膜層 (藥膜層 )* 光聚反應(yīng)的主體干膜各層作用 (光引發(fā)劑 )干膜化學(xué)組成*將干膜各組份粘結(jié)成膜,是光阻層的骨架,主要影響膜層的物理性能,在光聚合過程中不參與化學(xué)反應(yīng),但其決定光阻劑是屬于溶性、半水溶性和溶劑性干膜,粘潔劑決定干膜的 Tg點(diǎn)?;瘜W(xué)成份作用 a. 干膜本身制造時,方便進(jìn)行檢查。目的分類化學(xué)成份作用干膜在生產(chǎn)及應(yīng)用過程中很多步驟需接受高溫,為阻止熱能使干膜發(fā)生聚合作用而加入熱阻聚劑 將各有效成份溶解。 更換周期:一周(更換成本比較高); 2. 酸 硫酸,濃度為 3~5%,溫度為常溫; 3. 火山灰 質(zhì)量參數(shù):公司采用的為 HESS的 4F牌號火山灰,其主要化學(xué)成分為 SiO2:%。3. 目的:間接判斷火山灰有效粒徑;2. 水膜試驗(yàn)3. 每班一次,水膜時間 15秒;4. 目的:評價磨板后的板的潔凈度; 有機(jī)污染3. 磨痕試驗(yàn)4. 內(nèi)層、外層板鍍板: 12- 18mm;外層沉厚銅板: 48mm ;5. 目的:評價磨板時上下兩對刷子對板的壓力狀況。一般 。 b. 菲林尺寸穩(wěn)定性會受溫度的影響。8%Temperature 21177。Cleaning Room光線控制預(yù)熱*讓貼膜板有足夠熱量以輔助干膜之流動性,而更好地壓貼在粗糙銅面上。 , 避免溫度不均勻。壓力: 貼膜壓力太大,貼膜容易起皺,干膜蓋孔容易破,壓力太
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