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《電子顯微分析》ppt課件-全文預(yù)覽

2025-06-02 12:34 上一頁面

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【正文】 不同。 ? 在 TEM中,改變中間鏡的電流,使中間鏡的物平面從一次像平面移向物鏡的后焦面,可得到衍射譜,反之,讓中間鏡的物面從后焦面向下移到一次像平面,就可看到像。因此,要根據(jù)具體要求選用成像系統(tǒng)的放大倍數(shù)。 磁透鏡可以通過改變電流來調(diào)節(jié)放大倍數(shù)。磁透鏡最大放大倍數(shù)為 200倍,最大分辨本領(lǐng)為 。 1. 透射電鏡的構(gòu)造 電子光學(xué)系統(tǒng)(又稱為鏡筒) —— 基礎(chǔ)部分 照明系統(tǒng): 電子槍、聚光鏡 —— 得到具有確定能量的高亮度的聚焦電子束 成像系統(tǒng): 樣品室、物鏡、中間鏡和投影鏡 —— 安置樣品,放大成像 圖像觀察和記錄系統(tǒng): 熒光屏和照相裝置 電子槍 聚光鏡 試樣 物鏡 中間象 投影鏡 觀察屏 照相底板 樣品室 位于照明系統(tǒng)和物鏡之間,其作用是安裝各種形式的樣品臺(tái),提供樣品在觀察過程中的各種運(yùn)動(dòng),如平移 (選擇觀察區(qū)域 )、傾斜 (選擇合適的樣品位向 )和旋轉(zhuǎn)等。 主要包括電子光學(xué)系統(tǒng)、真空系統(tǒng)和電源系統(tǒng)三部分。 物鏡: 透射電鏡的核心 ,形成一次放大象和衍射譜,物鏡的分辨本領(lǐng)決定透射電鏡的分辨本領(lǐng);要求:物鏡有盡可能高的分辨本領(lǐng)、足夠高的放大倍數(shù)和盡量小的像差。 三級(jí)成像的總放大倍數(shù)為: MT = MO MI MP 其中 MO、 MI、 MP分別是物鏡、中間鏡和投影的放大倍數(shù)。成像亮度與 MT2成反比。 兩種工作模式 TEM既能得到衍射譜又能觀察像的原因 ? 晶體試樣,電子透過晶體時(shí)會(huì)發(fā)生衍射現(xiàn)象,在物鏡后焦面上形成衍射譜。 2. 透射電鏡的主要性能指標(biāo) ? 標(biāo)志透射電鏡的主要指標(biāo)是分辨率、放大率、襯度等 ? 分辨率 點(diǎn)分辨率 :電子圖像上尚能分辨開的相鄰兩點(diǎn)在試樣上的距離 線分辨率 :電子圖像上能分辨出的最小晶面間距 標(biāo)志電鏡水平的首要指標(biāo),高分辨電鏡的點(diǎn)分辨率可達(dá) ,線分辨率可達(dá) 放大率 ?電子圖像相對于試樣的線性放大倍數(shù) ?放大率可調(diào)節(jié) 襯度( contrast) ? TEM圖像中亮和暗的區(qū)別 ?兩個(gè)相臨部分的電子束強(qiáng)度差。 ?衍射襯度 (Diffraction contrast): 由于試樣各部分滿足布拉格條件的程度不同以及結(jié)構(gòu)振幅不同而產(chǎn)生的(主要用于晶體材料)。 衍射襯度 晶粒 A與入射束不成布拉格角,不產(chǎn)生衍射,透射束強(qiáng)度 IA=I0 晶粒 B與入射束滿足布拉格衍射
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