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《cell工程工藝簡(jiǎn)介》ppt課件(文件)

 

【正文】 Particle檢測(cè)裝置 發(fā)塵相關(guān)的異物不良 處理枚數(shù)管理,空燒 基板冷卻 基板表面溫度測(cè)試 Rubbing,配向不良 IR溫度時(shí)間,搬送速度 靜電 靜電計(jì) 靜電破壞 除電方法位置,搬送速度 Cell工藝簡(jiǎn)介 21 摩擦取向 摩擦處理的目的: ,使配向膜具有配向液晶的能力 玻璃基板 摩擦布 摩擦處理過(guò)程: US Cleaner US Cleaner Cell工藝簡(jiǎn)介 22 摩擦取向原理: 配向材分子 PI 摩擦前 摩擦后 摩擦方向 Cell工藝簡(jiǎn)介 23 摩擦工藝管理項(xiàng)目 項(xiàng)目 要求特性 常見對(duì)應(yīng)不良 摩擦處理均一性 基板顯示領(lǐng)域均被均一處理 摩擦強(qiáng)度低時(shí)會(huì)造成配向能力低,摩擦強(qiáng)度高時(shí)會(huì)造成膜剝離 預(yù)傾角安定性 預(yù)傾角在規(guī)定值以內(nèi) 預(yù)傾角過(guò)低會(huì)引起配向不良 潔凈度 摩擦工程的發(fā)塵量在規(guī)定值以內(nèi) 若發(fā)塵量過(guò)大,將造成粒子污染 剝離帶電量 帶電量在適當(dāng)范圍以內(nèi) 帶電量過(guò)大,將造成靜電破壞 Cell工藝簡(jiǎn)介 24 摩擦后洗凈目的: 除去摩擦工程后基板上的異物及污染物,防止異物不良和配向不良,包括有機(jī)污染物(摩擦布)和異物粒子(摩擦布、配向膜殘屑)、離子性不純物等。 Spacer散布工程的工藝要求特性: 液晶滴下時(shí) Spacer不發(fā)生移動(dòng) 在工藝過(guò)程中基板上不附著 US Cleaner不可去除的不純物 Cell工藝簡(jiǎn)介 28 Spacer散布原理及裝置概要 N2高速気流 【SUS配管斷面 】 在稱量皿中放入 Spacer, 通過(guò) SUS配管中一定流量 的氮?dú)鈮毫?Spacer抽送 至 NOZZLE進(jìn)行散布。 Ag pad 正常 量NG(多) ↓ 盒厚不均 Ag paste Ag paste Ag涂布前 Pad狀態(tài) Ag涂布后形狀 量NG(少) ↓ 接觸 不良 Ag paste 位置NG ↓ 接觸 不良 Ag paste Ag涂布穩(wěn)定性 正常 Cell工藝簡(jiǎn)介 34 Seal – PI – Ag涂布的位置關(guān)系: Seal膠 PI膜 Ag涂布 Pad 顯示區(qū) 適用于 TN型產(chǎn)品 IPS型產(chǎn)品不需要轉(zhuǎn)移電極 另一種獲得 V的方法 Seal膠內(nèi)摻入金球 ,通過(guò)接觸孔導(dǎo)通 優(yōu)點(diǎn): V更均勻 Seal膠 Cell工藝簡(jiǎn)介 35 液晶滴下( ODF) 目的:為了形成要求的 Gap值,在 TFT基板上滴 下合適的液晶量。 6 μ m以內(nèi) Gap精度: Gap均一 到達(dá)真空度: 真空到達(dá)時(shí)間: 60秒內(nèi)達(dá)到 1Pa以下; 120秒內(nèi)達(dá)到 真空貼合 Cell工藝簡(jiǎn)介 41 真空 Chamber(高真空) Seal 液晶 Glass Glass 真空 Chamber(低 真空) Seal 液晶 Glass Glass 氣泡 Spacer 大氣開放 大氣開放 真空貼合過(guò)程: 1. 若沒(méi)有達(dá)到要求的真空度,則貼合之后的面板會(huì)出現(xiàn) Gap不良,發(fā)生氣泡 2. 排氣速度(在液晶脫泡不充分或者排氣速度太快的情況下,會(huì)導(dǎo)致液晶飛濺出來(lái),若飛濺到seal材上,則會(huì)導(dǎo)致 seal材接著不良,液晶泄漏。 mask 熱風(fēng) Seal材充分硬化達(dá)到高信賴性,同時(shí)通過(guò)加熱再降溫使液晶 Isotropic化,進(jìn)行重新再配向 熱風(fēng)爐 ( Oven) (UV硬化 ) (本硬化 ) Cell工藝簡(jiǎn)介 44 UV硬化原理示意 UV光照射會(huì)使 asi內(nèi)產(chǎn)生電子遷移,破壞 TFT的 Tr特性,故 采用 MASK遮擋 TFT部。 刀片結(jié)構(gòu): 由于垂直裂縫在切斷后無(wú)法被觀察到 , 而它與 Rib mark有正比關(guān)系因此將 Rib mark作為考察垂直裂縫的標(biāo)準(zhǔn) 。 研磨、洗凈 Cell工藝簡(jiǎn)介 51 Cell工藝簡(jiǎn)介 52 研磨、洗凈設(shè)備構(gòu)成 Cell工藝簡(jiǎn)介 53 屏洗凈 目的: 偏光板帖付前除去屏上付著的異物。 裝置示意圖 Cell工藝簡(jiǎn)介 58 。 Cell工藝簡(jiǎn)介 54 研磨帶結(jié)構(gòu): Cell工藝簡(jiǎn)介 55 偏光板貼付 目的:根據(jù)屏的液晶配向方向,將偏光板的偏光軸與之重合進(jìn)行貼付。 ② .液晶屏玻璃端面處理,防止后續(xù)工程中出現(xiàn)缺口以及劃傷驅(qū)動(dòng) IC等。 Cell工藝簡(jiǎn)介
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