pcb光成像工藝知識(已修改)
2025-01-06 17:57 本頁面
【正文】 光成像工藝知識光成像工藝知識講述內(nèi)容一、干膜知識二、前處理三、貼膜四、曝光五、顯影六、蝕刻七、去膜八、菲林制作九、干膜類型十、工程處理注意事項(xiàng)一、干膜知識* 1968年由杜邦公司研制并用于線路板行業(yè) (非水溶性干膜，溶劑型；顯影用三氯乙烷，退膜用二氯甲烷 )。 (缺點(diǎn)：需消耗大量有機(jī)溶劑，污染大，成本高 )* 1970年研制出一種半水溶性干膜，顯影 .退膜用水溶液 (添加 215%有機(jī)溶劑 .BCS)，成本 .污染有很大改善。* 1978年改進(jìn)為全水溶性干膜，顯影用 ,退膜用 ，其成本更低，污染更小，品質(zhì)更好。* A Part: 聚醋蓋膜 (保護(hù)膜 )沖影時(shí)撕去 1milPolyester Cover Sheet* B Part: 光阻膜層 Photopdlymer Film Resist* C Part:聚乙烯隔膜、貼膜時(shí)撕去 Polyettylenc Separator Sheet 厚度 1mil附圖于下一頁干膜結(jié)構(gòu)干膜結(jié)構(gòu) 附圖聚醋蓋膜 (保護(hù)膜 )聚乙烯隔膜光阻膜層干膜各層作用聚酯保護(hù)膜：1. 保護(hù)作用，防止擦花藥膜，尤其是貼膜到?jīng)_影前的保護(hù) . ,由于曝光后聚合反應(yīng)將繼續(xù)進(jìn)行 ,氧氣進(jìn)入會與自由基發(fā)生反應(yīng)形成非活性的過氧化物，阻止聚合反應(yīng)的進(jìn)行，使聚合過程停止造成曝光聚合不足。 聚乙烯隔膜* 避免卷膜、運(yùn)輸、儲存時(shí)，干膜藥膜與保護(hù)膜之間相互粘貼， (厚度25181。m30181。m， 測本公司干膜隔膜 27181。m)光阻膜層 (藥膜層 )* 光聚反應(yīng)的主體干膜各層作用 (光引發(fā)劑 )干膜化學(xué)組成*將干膜各組份粘結(jié)成膜，是光阻層的骨架，主要影響膜層的物理性能，在光聚合過程中不參與化學(xué)反應(yīng)，但其決定光阻劑是屬于溶性、半水溶性和溶劑性干膜，粘潔劑決定干膜的 Tg點(diǎn)。*聚合反應(yīng)主體，單體吸收自由基后進(jìn)行聚合反應(yīng)形成商分小聚合體?；瘜W(xué)成份作用感光啟始劑吸收特定波長紫外光 (一般 320400nm),啟動劑自行裂解而產(chǎn)生自由基，為聚合反應(yīng)提供條件。 增進(jìn)光阻層與銅面之間的附著力，防止粘結(jié)不牢而引起的滲 鍍與甩膜?；瘜W(xué)成份作用 a. 干膜本身制造時(shí)，方便進(jìn)行檢查。 b. 曝光前后有明顯顏色變化，便于已曝光 板與未曝光的區(qū)分及目檢。 a. 感光增色：曝光后顏色加深。 b. 感光褪色：曝光后顏色變淺。目的分類化學(xué)成份作用干膜在生產(chǎn)及應(yīng)用過程中很多步驟需接受高溫，為阻止熱能使干膜發(fā)生聚合作用而加入熱阻聚劑 將各有效成份溶解。 化學(xué)成份作用*啟始劑吸收 UV光的能量后，先自行分裂產(chǎn)生自由基，自由基引發(fā)光聚反應(yīng)，形成交聯(lián)聚合物，不溶于顯影液，而未曝光的光阻膜被顯影液剝?nèi)?，聚合成像部分，保留在銅面上。 流程圖顯 影單體發(fā)生光聚反應(yīng)形成聚合體單體吸收自由基 出現(xiàn)自由基 啟始劑裂解紫外光照射干膜反應(yīng)過程磨板作用，油污，手指印，及其它污物。磨板效果圖附后，增大干膜與板面積，使干膜有更好的附著力。二、前處理磨板前板 磨板后板板面氧化 .油污 .手指印等磨 板磨板效
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