【正文】 用率成為工業(yè)鍍膜生產(chǎn)中迫切需要解決的問題。 在這次設(shè)計中，我運用一個雙向電機帶動陰極靶往復(fù)移動，帶動磁場的往復(fù)運動，增大水平磁場與靶材的接觸面積，減緩靶材的縱向刻蝕速率，從而使靶材表面刻蝕區(qū)更為平緩。 關(guān)鍵詞： 陰極靶 ，真空環(huán)境，靶材利用率，移動 矩形平面移動濺射靶的設(shè)計 5 / 23 Abstract: This paper describes a vacuum coating system sample transfer rack, it ranged between industrial mass transport mechanism used in the sample and in the teaching laboratory equipment used in the sampling method. In the coating process, the quality of the vacuum coating system has great influence on the membrane. However, a good coating machine, it is important to sample transport of the sample rack transport includes sample fixed on a sample holder, transported to the vacuum chamber, into the vacuum chamber so the sample stage. Vacuum coating chamber is a relatively high demand, more stringent environmental requirements of space. Therefore, during the transmission of the sample, to ensure that the coating chamber vacuum environment is not too much influence in the transfer process but also ensure that the sample is fixed and is not deformed. In the transmission process is best not to impurities or other gases in the air pollution particles into the coating chamber. In this design, the consideration of the above conditions and the sample into and out of the automation, I used an additional sample boxes, placed inside a clean cleaned substrate, the coating of this sample box before evacuating, the entire coating process played a role in the transition. This design can be the main vacuum chamber without breaking vacuum, but also can achieve the automation of the sample transfer process, without manual operation each time, the advantage is able to stand out. Keywords: The cathode target, Vacuum, Coefficient of utilization, Moving 矩形平面移動濺射靶的設(shè)計 6 / 23 1 緒論 真空鍍膜的意義 真空鍍膜技術(shù)是真空應(yīng)用技術(shù)的重要組成部分，是一項綜合的、應(yīng)用范圍很廣的先進技術(shù)，是許多前沿學(xué)科發(fā)展的基礎(chǔ)技術(shù)之一，同時也是當今信息時代中許多高新技術(shù)發(fā)展必不可少的手段。這一技術(shù)目前之所以得到飛速發(fā)展是因為它不僅僅是單一的真空應(yīng)用技術(shù)，而是以真空技術(shù)為基礎(chǔ)，利用物理或化學(xué)的方法，并且吸收了電子束、分子束、離子束、等離子體、射頻、磁控等一系列新的技術(shù)，從而為科學(xué)研究與生產(chǎn)提供了膜層涂覆的新工藝，新技術(shù)的結(jié)果。用真空鍍膜技術(shù)代替?zhèn)鹘y(tǒng)的電鍍工藝，不但能節(jié)省大量的膜材和降低能耗，而且 還會消除濕法鍍膜中所產(chǎn)生的環(huán)境污染。因此國外在鋼鐵零件涂覆防腐層和保護膜方面，已采用真空鍍膜工藝來替代電鍍工藝，在冶金工業(yè)中，為鋼板和鋼帶加鍍鋁防護層已很普遍。在機械制造工業(yè)中，真空鍍膜工藝用于改變某些加工工藝和節(jié)約貴重的原材料，再如汽車制造業(yè)中采用塑料制品金屬化零件代替各種金屬零件，即減輕了汽車的重量又節(jié)約了燃油的消耗。在玻璃上鍍?yōu)V光膜和低輻射膜，可使陽光射入。而作為室內(nèi)熱源的紅外輻射又不能通過玻璃輻射出去，這在高緯度地區(qū)也可以達到保溫節(jié)能的目的。 真空鍍膜技術(shù)及設(shè)備在當今和未來都擁有十分廣闊的應(yīng)用領(lǐng)域和 發(fā)展前景 特別是在制造大規(guī)模集成電路的電學(xué)膜：數(shù)字式縱向與橫向均可磁化的數(shù)據(jù)紀錄儲存膜：在能充分展示和應(yīng)用各種光學(xué)特性的光學(xué)膜；在計算機顯示用的感光膜；在 TFT、PDP平面顯示器上的導(dǎo)電膜和增透膜；在建筑、汽車行業(yè)上應(yīng)用的玻璃鍍膜和裝飾膜；在包裝領(lǐng)域用防護膜、阻隔膜；在裝飾材料上具有各種功能裝飾效果的功能膜；在工、模具上應(yīng)用的耐磨超硬膜：在納米材料研究方面的各種功能性薄膜等等都是在真空鍍膜技術(shù)及設(shè)備在廣泛應(yīng)用的基礎(chǔ)上得到的不斷發(fā)展的領(lǐng)域 。 真空鍍膜技術(shù)在國內(nèi)外的發(fā)展狀況 SOLERAS 公司的“ 分 流設(shè)計” (ShuntedDesign) ,它通過在靶和磁極之間放置一 矩形平面移動濺射靶的設(shè)計 7 / 23 定形狀的鐵磁體墊片 ,使得靶面附近的磁場分布更加均勻 ,延長了靶的壽命 ,提高了靶材的利用率 ,并使得濺射過程更加的穩(wěn)定。實驗證明 ,增加了墊片以后溝槽的深度是以前的 80%,靶材的利用率提高了 6%。同時，濺射過程參量變得更加穩(wěn)定。但是這種設(shè)計會降低磁通的利用率和靶面附近的磁場強度 ,濺射速率會有所下降。 SOLERAS 公司還提出了一種“表面增強剝蝕” (SurfaceProfilingEnhancement)技術(shù) ,它通過事先在靶面上刻蝕一定形狀的溝槽來達 到提高靶面剝蝕均勻性和靶材利用率的目的 。同時發(fā)現(xiàn) ,預(yù)先在靶面上刻蝕一定形狀的溝槽可以有效地降低放電電壓和工作壓強并